[发明专利]增加试样磨削量控制的多用途磨抛机

说明书

本发明涉及增加试样磨削量控制的多用途磨抛机，其包括基座；在基座上设置有磨抛工位；在磨抛工位一侧设置有支撑立臂的立臂下部，在支撑立臂上设置有头部，用于对磨抛工位处的样品进行磨抛；在头部设置有升降部；在升降部下端设置有活动套在样品上的样品支架一或夹持携带有样品的样品支架二；升降部包括在支撑立臂顶部升降的升降架体；在升降架体与支撑立臂之间具有升降导螺杆、升降滑轨、摆动架体、升降导轮及升降固定丝母座，升降导螺杆驱动升降架体在摆动架体上上下运动；本发明设计合理、结构紧凑且使用方便。

技术领域

本发明涉及试样磨削量控制的多用途磨抛机。

背景技术

研磨抛光机应用于许多产业。它们经常用于制备为进一步实验用的金属样品、聚合物样品、陶瓷样品或类似样品，例如用于金相实验。已知的研磨抛光机包括标本支架或样品支架，所述标本支架或样品支架设置成可相对于压盘转动，所述压盘也被设置成可以转动。用这种方式，有两个转动的动作同时发生。浆(通常为研磨料)被注入到压盘上为研磨和抛光样品提供研磨介质。样品支架被支撑用于在卡盘上转动。支架是具有多孔的平面盘，样品位于孔中。在一种方式中，样品被锁入支架中并且由支架施加向下的压力压在压盘上。当支架和压盘转动时，支架(和样品)施加的压力与浆的研磨作用一起，对样品产生研磨和抛光的作用。在另一种方式中，样品漂浮在支架内并且柱塞被移动与样品接触以对样品施加压力。此外，当所述支架和压盘转动时，柱塞施加的压力与浆的研磨作用一起导致对样品产生研磨和抛光的作用。支架接近和远离压盘的移动被位于研磨抛光机头部的驱动器控制。驱动马达被用于定位支架并且因此相对于压盘的样品。已知研磨抛光机的一个缺陷是没有良好的定位控制器或机构以精确控制支架相对于压盘的位置。压盘被支撑在碗状物内。碗状物用作在研磨或抛光操作中产生碎片的容器。水或其他液体用于冲洗碗状物以清除碎片。

在先专利 CN201610035016.5 提供一种改进的研磨抛光机。具体内容：包括：基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和驱动盘驱动装置，所述驱动盘适于支撑压盘；头部，所述头部设置用于支撑样品支架并具有用于样品支架的旋转驱动的第一驱动装置，所述头部具有用于移动样品支架接近和远离所述压盘的第二驱动装置，头部的一部分可与样品支架一起转动；导螺杆，所述导螺杆用于移动所述样品支架接近和远离所述压盘，所述导螺杆被连接至计数器，其中导螺杆齿轮装配在所述导螺杆上，并且所述计数器被与所述导螺杆齿轮啮合的小齿轮所驱动，其中所述导螺杆齿轮比所述小齿轮大；以及；指状物，所述指状物可以从所述头部的可与所述样品支架一起旋转的部分伸出或缩回，所述指状物设置成与定位在样品支架上的样品接触并在样品上施加压力以使所述样品接合所述压盘。

一种改进的研磨机/抛光机，包括：头部，所述头部设置成支撑样品支架并具有用于样品支架的旋转驱动的第一驱动装置，所述头部具有用于移动样品支架接近和远离所述压盘的第二驱动装置；以及导螺杆，所述导螺杆用于移动所述样品支架接近和远离所述压盘，所述导螺杆被连接至计数器，其中导螺杆齿轮装配在所述导螺杆上，并且所述计数器被与所述导螺杆齿轮啮合的小齿轮所驱动，其中所述导螺杆齿轮比所述小齿轮大。