[发明专利]着色感光性组合物、着色膜、着色膜的制造方法及图案化的着色膜的制造方法

权利要求书

1.一种着色感光性组合物，其特征在于，含有：以下述式(a-1)表示的光聚合性化合物(A)、疏水性树脂(B)、光聚合引发剂(C)、着色剂(D)、溶剂(S)，

以所述式(a-1)表示的光聚合性化合物(A)包含以所述式(a-1)表示的质均分子量Mw为3500以上5500以下的高分子量光聚合性化合物(A1)与以所述式(a-1)表示的质均分子量Mw为1500以上3000以下的低分子量光聚合性化合物(A2)，

所述疏水性树脂(B)是在室温下不与水自由混合的疏水性单体与具有选自羟基及羧基的至少一个基团的亲水性单体的共聚物，所述疏水性单体相对于所述疏水性单体与所述亲水性单体的合计的比例为65摩尔％以上95摩尔％以下，

所述疏水性树脂(B)的含量相对于以所述式(a-1)表示的光聚合性化合物(A)100质量份为超过0质量份小于5质量份，

【化1】

式(a-1)中，X^a表示以下述式(a-2)表示的基团，

【化2】

t1表示0以上20以下的整数，

式(a-2)中，R^a1分别独立地表示氢原子、碳原子数为1以上7以下的烃基或者卤素原子，R^a2分别独立地表示氢原子或者甲基，R^a3分别独立地表示直链或者支链的亚烷基，t2分别独立地表示0或者1，W^a表示以下述式(a-3)表示的基团，

【化3】

式(a-3)中，环A表示可以与芳香族环缩合也可具有取代基的脂肪族环，

R^a0表示氢原子或以-CO-Y^a-COOH表示的基团，Y^a表示从二羧酸酐去除酸酐基后的残基，

Z^a表示从四羧酸二酐去除2个酸酐基后的残基。

2.如权利要求1所述的着色感光性组合物，其特征在于，所述疏水性树脂(B)为苯乙烯与(甲基)丙烯酸的共聚物。

3.如权利要求1或2所述的着色感光性组合物，其特征于，所述高分子量光聚合性化合物(A1)与所述低分子量光聚合性化合物(A2)的质量比为高分子量光聚合性化合物(A1)：低分子量光聚合性化合物(A2)＝95：5～30：70。

4.如权利要求1或2所述的着色感光性组合物，其特征在于，进一步含有所述光聚合性化合物(A)以外的光聚合性化合物(E)。

5.如权利要求1或2所述的着色感光性组合物，其特征在于，所述着色剂(D)包含黑色颜料。

6.一种着色膜，其特征在于，由权利要求1～5的任一项所述的着色感光性组合物的固化物构成。

7.一种着色膜的制造方法，其特征在于，包括：

涂布权利要求1～5的任一项所述的着色感光性组合物而形成涂布膜的工序；

对所述涂布膜进行曝光的工序。

8.一种图案化的着色膜的制造方法，其特征在于，包括：

涂布权利要求1～5的任一项所述的着色感光性组合物而形成涂布膜的工序；

对所述涂布膜位置选择性地曝光的工序；

对曝光后的所述涂布膜进行显影的工序。