[发明专利]一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备

权利要求书

1.一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，包括反应釜(2)，所述反应釜(2)的顶部开口设置，且其顶部设置有升降的舱盖(21)，其特征在于，还包括：

石墨化罐组(3)，所述石墨化罐组(3)设置于所述反应釜(2)的底部，其内部设置有用于盛装配比好的Si与SiO₂的粉末混合物的容腔(31)，该容腔(31)的四周等距设置有若干的与所述容腔(31)底部连通的进气通道(32)，且该容腔(31)的上部设置有连通的排气管道(33)；

涂层平台(4)，所述涂层平台(4)安装于所述石墨化罐组(3)的正上方，其正对所述排气管道(33)的排气口设置，该涂层平台(4)上放置石墨工件(10)；

鼓风机构(5)，所述鼓风机构(5)安装于所述涂层平台(4)的上方，其安装于所述舱盖(21)上，其对所述进气通道(32)鼓入气体，使所述石墨化罐组(3)内生成的SiO气体通过所述排气管道(33)排送到所述石墨工件(10)处。

2.根据权利要求1所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述石墨化罐组(3)包括内胆(34)、外胆(35)与封盖(36)，所述内胆(34)内部设置有容腔(31)，所述内胆(34)及所述外胆(35)之间设置有所述进气通道(32)，所述封盖(36)罩设于所述内胆(34)的顶部，所述排气管道(33)穿设与所述封盖(36)上。

3.根据权利要求2所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述进气通道(32)与所述容腔(31)的连通位置处设置有进气阀组(37)，所述排气管道(33)上设置有排气阀组(38)，所述进气阀组(37)及所述排气阀组(38)均由所述鼓风机构(5)控制启闭。

4.根据权利要求3所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述进气阀组(37)包括集气管(371)及进气管(372)，所述集气管(371)设置于所述外胆(35)的底部，其侧壁与所述进气通道(32)连通，且其顶部设置有半圆形的第一阀板(373)，所述进气管(372)与所述集气管(371)同轴设置，其旋转安装于所述内胆(34)上，且其与所述容腔(31)连通，该进气管(372)的底部与所述集气管(371)的顶部抵触设置，且抵触位置设置有与所述第一阀板(373)配合的呈半圆形设置的第二阀板(374)，所述进气管(372)与所述排气管道(33)一体连接设置，且连接部位隔断设置。

5.根据权利要求3所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述排气阀组(38)包括设置于所述排气管道(33)顶部开口处呈半圆形设置的第一阀门板(381)及与所述排气管道(33)同轴设置的排气罩(382)，该排气罩(382)的底部与所述排气管道(33)抵触位置处设置有于所述第一阀门板(381)配合的呈半圆形设置的第二阀门板(383)。

6.根据权利要求1所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述涂层平台(4)与所述排气管道(33)正对的位置处为网格设置，且该位置处架设有用于放置所述石墨工件(10)的放置架(41)，该放置架(41)镂空设置。

7.根据权利要求3所述的一种石墨表层抗氧化SiC均匀循环涂层设备，其特征在于，所述鼓风机构(5)包括：

驱动电机(51)，所述驱动电机(51)安装于所述舱盖(21)上，其位于所述反应釜(2)的外部；

扇叶(52)，若干的所述扇叶(52)呈圆周等距排列于所述驱动电机(51)的四周，且其由所述驱动电机(51)通过安装于所述舱盖(21)上的行星齿轮组(53)驱动同步旋转；以及

循环气路管组(54)，所述循环气路管组(54)安装于所述舱盖(21)与所述石墨化罐组(3)之间，其与所述进气通道(32)一一对应连通设置，且其吸取所述涂层平台(4)上的气体导入至所述石墨化罐组(3)内，并将所述石墨化罐组(3)内的SiO气体吹出。