[发明专利]一种激光直写图形的补偿方法和激光曝光机

权利要求书

1.一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：步骤包括：

第一步：将激光直写图形显影得到的图形尺寸与原始图形尺寸相比较，分别确定第一方向和第二方向的补偿值；

第二步：根据第一方向的补偿值，将原始图形在第一方向上的外侧轮廓进行第一次补偿得到第一补偿图形；将所述第一补偿图形栅格化，得到第一栅格图形；

第三步：根据第二方向的补偿值，将所述第一栅格图形的外侧轮廓在第二方向上进行第二次补偿，获得第二栅格图形；

第四步：将第二栅格图形上载到DMD数字微镜器件上，投射到基底上进行曝光。

2.根据权利要求1所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：所述第二步中获得所述第一补偿图形的做法是将原始图形在第一方向上的外侧轮廓向内缩进，缩进量的总和等于所述第一方向的补偿值。

3.根据权利要求1所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：所述第二步中所述第一栅格图形是根据DMD数字微镜器件的分辨率，将向量图形格式表示的第一补偿图形栅格化为位图得到的。

4.根据权利要求1所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：所述第一方向垂直于所述第二方向。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：第一步确定的第一方向和第二方向的补偿值是标量。

6.根据权利要求5所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：在第三步中所述第二栅格图形是将第二方向的补偿值除以所述第一栅格图形的栅格大小得到需要补偿的栅格数量，依据此栅格数量将所述第一栅格图形在第二方向上的外侧轮廓向内减去对应个数的栅格得到的。

7.根据权利要求6所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：所述第一栅格图形在第二方向上的两侧轮廓都向内缩进相同的栅格数量，每侧减少的栅格数量是所述需要补偿的栅格数量的二分之一。

8.根据权利要求6所述的一种激光直写图形的补偿方法，其特征在于：所述第一栅格图形在第二方向上的一侧轮廓缩进的栅格数量是所述需要补偿的栅格数量减去在第二方向上另一侧轮廓缩进的栅格数量。

9.一种激光曝光机，具有DMD数字微镜器件，DMD数字微镜器件具有微镜阵列，其特征在于：所述DMD数字微镜器件的分辨率大于或等于权利要求1-8任意一项所述的一种激光直写图形中补偿方法中的第一栅格图形的分辨率；所述DMD数字微镜器件的微镜尺寸与所述第一栅格图形的栅格尺寸成整数比。

10.根据权利要求9所述的一种激光曝光机，其特征在于：所述DMD数字微镜器件的微镜尺寸与所述第一栅格图形的栅格尺寸相等。