[发明专利]成膜组合物及其制备方法和应用有效
申请号: | 202011295071.0 | 申请日: | 2020-11-18 |
公开(公告)号: | CN114517041B | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 卢泽宇;张世龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市万普拉斯科技有限公司 |
主分类号: | C09D135/06 | 分类号: | C09D135/06;C09D163/00;C09D7/63 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 马小悦 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明涉及一种成膜组合物及其制备方法和应用。通过将丙烯酸树脂、金属螯合剂、偶联剂、流平剂、交联剂以及溶剂按照质量份数分别为30份‑50份、1份‑2份、1份‑2份、0.1份‑0.5份、3份‑5份以及40份‑60份进行配比,得到了固含量高、粘度适宜、易于喷涂施工的成膜组合物。在喷涂施工时,本发明中成膜组合物喷涂效果良好,不易出现喷涂断线、堵塞喷嘴等问题。将该成膜组合物在基材表面上喷涂加工,能够在基材表面形成稳定性好、附着力优良、透明度高、耐黄变的膜层。然后配合镀膜加工,能够使电子设备表现为多样化的外观和质感。
技术领域
本发明涉及膜层加工技术领域,尤其是涉及一种成膜组合物及其制备方法和应用。
背景技术
随着电子设备的普及,消费者对电子设备的外观要求越来越高。为了满足外观的多样化要求,膜层的加工显得尤为重要。性能优良的膜层具有很好的稳定性和附着力,同时也不会影响电子设备信号的传输。然而,传统的膜层稳定性差、附着力不良,尤其是当需要在膜层表面进行镀膜以改善电子设备外观时,传统的膜层更加难以保持稳定,甚至在镀膜过程中会对膜层下的基材造成不利的影响。
发明内容
基于此,有必要提供一种成膜组合物及其制备方法和应用。所述成膜组合物能够在基材表面形成稳定性好、附着力优良的膜层。通过所述成膜组合物在基材表面形成膜层之后,配合后续的镀膜加工,能够使电子设备表现为多样化的外观和质感。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
本发明的一个目的在于提供一种成膜组合物,所述成膜组合物包括如下质量份数的各组分:丙烯酸树脂30份-50份、金属螯合剂1份-2份、偶联剂1份-2份、流平剂0.1份-0.5份、交联剂3份-5份以及溶剂40份-60份。
在其中一个实施例中,所述成膜组合物包括如下质量份数的各组分:丙烯酸树脂35份-45份、金属螯合剂1份-1.5份、偶联剂1份-1.5份、流平剂0.2份-0.5份、交联剂4份-5份以及溶剂50份-60份。
在其中一个实施例中,所述成膜组合物包括如下质量份数的各组分:丙烯酸树脂40份、金属螯合剂1份、偶联剂1份、流平剂0.5份、交联剂5份以及溶剂52.5份。
在其中一个实施例中,所述丙烯酸树脂具有式(1)所示的结构;
其中,l、m、n、o均为正整数;R为烷基。
在其中一个实施例中,所述丙烯酸树脂的重均分子量为6000-15000;和/或,
所述丙烯酸树脂的酸值为20mgKOH/g-80mgKOH/g;和/或,
所述丙烯酸树脂的固含量为20%-60%。
在其中一个实施例中,所述金属螯合剂为乙酰丙酮钛、乙酰丙酮锆、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮铁以及乙酰丙酮镁中的至少一种;和/或,
所述交联剂为环氧树脂;和/或,
所述偶联剂为硅烷偶联剂。
在其中一个实施例中,所述溶剂为酯、醇、醚、酮以及酰胺中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述溶剂的沸点为150℃-230℃。
本发明的一个目的在于提供一种成膜组合物的制备方法,该成膜组合物的制备方法包括如下步骤:
将丙烯酸树脂、金属螯合剂、偶联剂、流平剂、交联剂以及溶剂按照质量份数分别为30份-50份、1份-2份、1份-2份、0.1份-0.5份、3份-5份以及40份-60份备料;
将所述丙烯酸树脂、所述金属螯合剂、所述偶联剂、所述流平剂、所述交联剂以及所述溶剂混合。
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