[发明专利]用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台

权利要求书

1.用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)的顶部设置有基台主体(2)，基台主体(2)上开设有两个固定孔(3)，两个固定孔(3)内滑动连接有第一挡板(4)和第二挡板(5)，第一挡板(4)和第二挡板(5)的底端均延伸至基台主体(2)的下方并与底座(1)的顶部固定连接，第一挡板(4)和第二挡板(5)的顶端均延伸至基台主体(2)的上方并固定连接有固定块(6)，第一挡板(4)和第二挡板(5)相互靠近的一侧均开设有第一滑槽(7)，两个固定孔(3)相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块(8)，且两个第一滑块(8)分别与相对应的第一滑槽(7)滑动连接，两个第一滑块(8)上均开设有限位孔(9)，两个限位孔(9)内均滑动连接有限位杆(10)，且限位杆(10)的顶端和底端分别与相对应的第一滑槽(7)的顶部内壁和底部内壁固定连接，底座(1)的顶部开设有第二滑槽(11)，第二滑槽(11)内滑动连接有两个第二滑块(12)，两个第二滑块(12)上均转动安装有倾斜对称设置的铰接板(13)，且两个铰接板(13)相铰接，基台主体(2)的底部固定连接有两个铰接座(14)，且两个铰接板(13)远离两个第二滑块(12)的一端分别与相对应的铰接座(14)转动连接，第一挡板(4)靠近第二挡板(5)的一侧开设有转动槽(15)，第二挡板(5)上开设有转动孔(16)，且转动孔(16)和转动槽(15)内转动安装有同一个双向丝杆(17)，第二挡板(5)远离第一挡板(4)的一侧开设有滑动槽(18)，滑动槽(18)内滑动连接有滑动板(19)，滑动板(19)上开设有滑动孔(20)，滑动孔(20)内滑动连接有滑动杆(21)；所述滑动槽(18)的一侧内壁上开设有卡槽(22)，且滑动杆(21)的一端与卡槽(22)相卡装，滑动杆(21)的另一端延伸至滑动板(19)的外侧并固定连接有连接杆(23)；所述滑动板(19)的底部固定连接有定位板(24)，定位板(24)远离第二挡板(5)的一端开设有定位槽(25)，定位槽(25)内滑动连接有定位杆(26)，定位杆(26)的一端延伸至定位板(24)的外侧并与连接杆(23)固定连接；所述第二挡板(5)远离第一挡板(4)的一侧开设有圆形槽(29)，圆形槽(29)内转动安装有圆形杆(30)，圆形杆(30)的外侧固定套设有齿轮(31)，且齿轮(31)与齿条(28)相啮合。

2.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，其特征在于，所述连接杆(23)靠近滑动板(19)的一侧固定连接有套设在定位杆(26)外侧的定位弹簧(27)，定位弹簧(27)远离连接杆(23)的一端与定位板(24)固定连接，滑动板(19)的底部固定连接有齿条(28)。

3.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，其特征在于，所述双向丝杆(17)的外侧固定套设有第一链轮(32)，圆形杆(30)的外侧固定套设有第二链轮(33)，第二链轮(33)上啮合有链条(34)，且第二链轮(33)通过链条(34)与第一链轮(32)传动连接。

4.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，其特征在于，所述转动槽(15)内固定安装有第一轴承的外圈，且双向丝杆(17)与第一轴承的内圈固定连接。

5.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，其特征在于，所述转动孔(16)内固定安装有第二轴承的外圈，且双向丝杆(17)与第二轴承的内圈固定连接。

6.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台，其特征在于，所述卡槽(22)的数量为多个，且多个卡槽(22)呈竖直方向等距离分布在滑动槽(18)的一侧内壁上。