[发明专利]轨迹控制装置在审

专利信息
申请号: 202011297170.2 申请日: 2020-11-18
公开(公告)号: CN112835324A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 脇坂新路;小熊和行;安田光 申请(专利权)人: SMC株式会社
主分类号: G05B19/19 分类号: G05B19/19
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 崔巍
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 轨迹 控制 装置
【权利要求书】:

1.一种轨迹控制装置,使轨迹追随部件(28)沿着放置于任意位置的工件上的轨迹移动,该轨迹控制装置(10)的特征在于,具备:

接触传感器(26),该接触传感器能够与所述工件的侧面接触;

致动器(24),该致动器使所述轨迹追随部件和所述接触传感器移动;以及

轨迹控制器(12),该轨迹控制器基于基准位置的所述工件的侧面的位置信息和放置于所述任意位置的所述工件的侧面的位置信息,对所述基准位置的所述工件上的轨迹的XY坐标进行变换,从而计算出放置于所述任意位置的所述工件上的轨迹的XY坐标,

放置于所述任意位置的所述工件的侧面的位置信息是通过所述接触传感器获得的。

2.根据权利要求1所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

所述致动器包含:X轴致动器(24a)、Y轴致动器(24b)以及Z轴致动器(24c),所述接触传感器和所述轨迹追随部件安装于所述Z轴致动器。

3.根据权利要求2所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

通过所述Z轴致动器的驱动对所述接触传感器和所述轨迹追随部件的Z轴方向的位置进行调整,以使在所述接触传感器向工作位置移动时,所述轨迹追随部件向退避位置移动,并且在所述轨迹追随部件向工作位置移动时,所述接触传感器向退避位置移动。

4.根据权利要求1所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

所述轨迹控制器驱动所述致动器而使所述接触传感器在与X轴平行的两个移动方向上前进,从而对所述工件的一个侧面上的两个接触点的XY坐标进行检测,并且,该轨迹控制器驱动所述致动器而使所述接触传感器在与Y轴平行的两个移动方向上前进,从而对所述工件的另一个侧面上的两个接触点的XY坐标进行检测。

5.根据权利要求4所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

当所述接触传感器与所述一个侧面或所述另一个侧面接触时,所述轨迹控制器使所述致动器停止。

6.根据权利要求4所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

所述轨迹控制器求出通过所述工件的一个侧面上的两个接触点的第一直线的方程式、通过所述工件的另一个侧面上的两个接触点的第二直线的方程式,并且求出所述第一直线与所述第二直线的交点的XY坐标,计算出所述工件的基准点的X坐标移动量和Y坐标移动量,并且对于所述工件的另一个侧面,计算出从所述工件的基准位置起的倾斜角度。

7.根据权利要求6所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

基于所述工件的基准点的X坐标移动量、所述工件的基准点的Y坐标移动量以及所述倾斜角度,使用仿射变换计算出放置于所述任意位置的所述工件上的轨迹的XY坐标。

8.根据权利要求7所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

所述仿射变换基于下式:

x′=(x)Cos(Δθ)-(y)Sin(Δθ)+tx

y′=(x)Sin(Δθ)+(y)Cos(Δθ)+ty,

其中,式中的文字或符号的意思如下所述:

x′:放置于所述任意位置的所述工件上的轨迹的X坐标,

y′:放置于所述任意位置的所述工件上的轨迹的Y坐标,

x:所述基准位置的所述工件上的轨迹的X坐标,

y:所述基准位置的所述工件上的轨迹的Y坐标,

Δθ:所述倾斜角度,

tx:对所述工件的基准点的X坐标移动量加上基于仿射变换的所述基准点的X坐标移动量而得到的值,

ty:对所述工件的基准点的Y坐标移动量加上基于仿射变换的所述基准点的Y坐标移动量而得到的值。

9.根据权利要求8所记载的轨迹控制装置,其特征在于,

基于所述仿射变换的所述基准点的X坐标移动量是对所述基准点的X坐标与将所述基准点以XY坐标系的原点为中心旋转所述Δθ时的X坐标的差进行计算而得到的值,基于所述仿射变换的所述基准点的Y坐标移动量是对所述基准点的Y坐标与将所述基准点以XY坐标系的原点为中心旋转所述Δθ时的Y坐标的差进行计算而得到的值。

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