[发明专利]一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜及制备方法

说明书

本发明提供了一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜，包括：衬底(1)；依次复合于衬底(1)一侧的第一介质层(2)、超薄金属层(3)和第二介质层(4)；依次复合于衬底(1)另一侧的金属网格层(5)以及减反层(6)，所述金属网格层的网格线宽为200nm～2000nm，网格周期为4～100μm。本发明使用超细线宽网格，制备了一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜，具有宽频段、高屏蔽效能、高透过率并且超薄的特点。

技术领域

本发明属于光学和电磁屏蔽技术领域，具体涉及一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜及制备方法。

背景技术

随着5G时代的到来，无线电磁波频段在原有的Sub6G频段上(FR1：450MHz-6GHz)，首次引入了高频段的毫米波(FR2：24.25GHz-52.60GHz)，使得电磁环境更加复杂。与此同时科学技术也在日益发展，电子设备的用途更加广泛，产生的电磁干扰(EMI)也越来越多。电磁干扰在如今信息时代被认为是一种新型污染，它直接影响电子设备的使用，甚至危害人体健康。对于各类人机交互的光学视窗，例如移动通信设备、电子显示器等，以及屏蔽展示柜、屏蔽玻璃等，在要求具有良好的屏蔽性能的基础上，还需要具有较好的光学性能。所以兼备宽频带高屏蔽性能和高光学透过率仍然是一个巨大的挑战。

金属网格由于其可控的光学和电学性能，在透明电磁屏蔽领域应用广泛。金属网格结构提高屏蔽效能的常用手段是提高电学性能，也就是通过增加厚度来提高金属网格电导率。但在实际制作工艺中，金属网格厚度的阈值由线宽决定，越细的线宽厚度的阈值也越小，导致可改变的厚度不大，从而电学性能变化不大。

发明内容

有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜及制备方法，本发明提供的柔性透明电磁屏蔽膜在宽频段兼具良好的屏蔽性能和光学透过率。

本发明提供了一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜，包括：

衬底(1)；

依次复合于衬底(1)一侧的第一介质层(2)、超薄金属层(3)和第二介质层(4)；

依次复合于衬底(1)另一侧的金属网格层(5)以及减反层(6)，所述金属网格层的网格线宽为200nm～2000nm，网格周期为4～100μm。

优选的，所述衬底选自柔性透明材料，优选为PET、PC、PEN、PP或PMMA，厚度为10-1100μm。

优选的，所述第一介质层与第二介质层独立的选自TCO薄膜中的一种，优选为ZnO、SnO₂、In₂O₃、TiO₂、WO₃、ITO、AZO或GZO薄膜，厚度为40～60nm。

优选的，所述超薄金属层的材料为Cu、Ag、Al、Mo、Ti或者Ni，厚度为10nm～20nm。

优选的，所述金属网格层的厚度为200nm-2000nm，材料为Cu、Ag、Al、Mo、Ti或者Ni，网格图形为正方形或不规则图形。

优选的，所述减反层选自TiO₂、Nb₂O₅、NiO₂、SiO₂中的至少一种，厚度为100nm～400nm。

优选的，所述超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜的厚度为10-1100μm。

本发明还提供了一种上述柔性透明电磁屏蔽膜的制备方法，包括以下步骤：

通过磁控溅射的方法在衬底的一侧制备第一介质层、超薄金属层和第二介质层；

通过紫外光刻结合电镀的方法在衬底的另一侧制备金属网格层；

通过磁控溅射的方法在所述金属网格层表面制备减反层。