[发明专利]液位测量方法及拉单晶方法在审
申请号: | 202011299514.3 | 申请日: | 2020-11-18 |
公开(公告)号: | CN112522779A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 邓先亮 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B15/20 | 分类号: | C30B15/20;C30B29/06;G01F23/292 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201306 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 测量方法 拉单晶 方法 | ||
1.一种液位测量方法,其特征在于,用于探测拉晶设备内的熔体的液位信息,所述拉晶设备包括炉体、坩埚、导流筒以及探测器,所述坩埚设置于所述炉体内并用于容置所述熔体,所述导流筒设置于所述炉体内并位于所述坩埚的上方,所述导流筒与所述熔体的熔体液面之间具有熔间隙,所述液位测量方法包括以下步骤:
将探测器配置为设置于所述熔体的熔体液面的上方;
利用所述探测器获取所述熔体液面至所述探测器的第一距离的信息;以及,
基于所述第一距离的信息获取所述熔体液面至导流筒的熔体液位信息,得到所述熔间隙的距离。
2.根据权利要求1所述的液位测量方法,其特征在于,在所述基于所述第一距离的信息获取所述熔体液面至导流筒的熔体液位信息,得到所述熔间隙的距离的步骤之前,所述液位测量方法还包括:
将所述探测器设置于所述熔体液面的正上方,确定所述导流筒至所述探测器的第二距离,其中,所述第二距离小于所述第一距离。
3.根据权利要求2所述的液位测量方法,其特征在于,所述基于所述第一距离的信息获取所述熔体液面至导流筒的熔体液位信息,得到所述熔间隙的距离的步骤包括:
M=L-h
其中,M表示所述熔间隙的距离,L表示所述第一距离,h表示所述第二距离。
4.根据权利要求1所述的液位测量方法,其特征在于,所述熔体液面的中心被提拉出一晶体,所述探测器距所述晶体的中心轴的距离在150~400mm之间。
5.根据权利要求1所述的液位测量方法,其特征在于,所述探测器通过电磁波的返回信号获取所述第一距离的信息,或者,所述探测器为激光雷达。
6.根据权利要求1所述的液位测量方法,其特征在于,所述探测器探测的距离精度在0.1mm之内。
7.根据权利要求1所述的液位测量方法,其特征在于,在所述炉体的顶部开设一视窗,所述探测器配置为设置于所述视窗处。
8.一种拉单晶方法,其特征在于,所述拉单晶方法包括以下步骤:
采用权利要求1~7中任一项所述的液位测量方法获取所述熔体的熔体液位信息;以及,
根据所述熔体液位信息调节坩埚的位置。
9.根据权利要求8所述的拉单晶方法,其特征在于,拉晶设备包括控制器,所述根据所述熔体液位信息调节坩埚的位置的步骤包括:
所述控制器接收探测器反馈的所述熔体液位信息,并调节所述坩埚的位置。
10.根据权利要求9所述的拉单晶方法,其特征在于,所述根据所述熔体液位信息调节坩埚的位置的步骤还包括:
预设所述控制器的标准液位信息;
将所述控制器接收到的所述熔体液位信息与标准液位信息进行对比;
若所述熔体液位信息小于标准液位信息,则执行所述坩埚下降的命令;
若所述熔体液位信息大于标准液位信息,则执行所述坩埚上升的命令;
若所述熔体液位信息等于标准液位信息,则不执行命令。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新昇半导体科技有限公司,未经上海新昇半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011299514.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。