[发明专利]自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3有效

专利信息
申请号: 202011301146.1 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN112410880B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 李江宇;钟高阔;安峰;欧云;訾孟飞 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C23C14/08;C23C14/28;C30B23/02;C30B29/22;C30B29/32;C30B29/60
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 任志龙
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 调控 生长 取向 柔性 支撑 fe base sub
【权利要求书】:

1.一种自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3O4薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)选择STO(001)基片,对其进行预处理,具体包括如下步骤:

a、将STO(001)基片浸于丙酮中,在60℃下超声清洗10min;

b、再将STO(001)基片浸于无水乙醇中,超声清洗5min;

c、接着将STO(001)基片浸于去离子水中,超声清洗5min;

d、最后用氮气对STO(001)基片进行干燥;

(2)采用脉冲激光沉积方法在预处理的STO(001)基片上依次制备得到单晶SAO层、STO层以及Fe3O4薄膜材料,具体包括如下步骤:

(a)将步骤(1)中预处理后的STO(001)基片用银浆粘贴在SiC导热片后加热干燥;

(b)再将粘贴有STO(001)基片的SiC导热片放置在脉冲激光沉积系统的生长腔体中激光加热台上,将腔体内的背景真空抽至5×10-7Torr以下,再将STO(001)基片加热至700℃,在加热过程中,向腔体内充入流动的氧气以达到3×10-6Torr氧分压,设置激光器的激光能量为300mJ,频率为10Hz;

(c)之后开启激光器轰击SAO靶材,使SAO沉积在STO(001)基片上,沉积时间为20min;

(d)随后保持STO(001)基片温度和腔内氧压不变,开启激光器轰击STO靶材,在STO/SAO表面沉积一层STO层,厚度为20-100nm,沉积时间为5min,沉积温度为650℃-750℃;

(e)最后将STO(001)基片温度降至400℃,同时保持氧分压不变,再次开启激光器轰击Fe3O4靶材,使Fe3O4沉积在STO/SAO表面,沉积时间为60min,制备得到STO/SAO/Fe3O4材料;

(3)对上述步骤制备得到的STO/SAO/STO/Fe3O4材料浸泡于去离子水中以溶解单晶SAO层,从而得到自支撑STO/Fe3O4薄膜材料,具体包括如下步骤:

(A)用有机聚合物支撑板与STO/SAO/STO/Fe3O4样品的Fe3O4薄膜进行紧密贴合;

(B)再将上述处理的样品放在90℃的加热台上,加热10min;

(C)然后将样品浸泡于去离子水中50min,使得单晶SAO层完全溶解;

(D)最后将贴合有Fe3O4薄膜的PDMS支撑板取出,制备得到自支撑的STO/Fe3O4材料;

制得的自支撑STO/Fe3O4薄膜材料为立方晶系的单晶,单晶Fe3O4的晶胞参数为:a=8.394Å,STO晶体的晶胞参数为:a=3.905Å,SAO晶体的晶胞参数为:a=15.844Å。

2.一种单晶结构,其特征在于,根据权利要求1所述的自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3O4薄膜材料的制备方法制得而成,单晶结构依次为STO/SAO/STO/Fe3O4,其中STO为晶面取向为(001)的STO基片,SAO为STO基片上晶相外延生长的单晶SAO层,外延关系为STO[001]//SAO[001],在STO/SAO/STO层上生长的Fe3O4为单晶Fe3O4薄膜,其外延生长关系为STO[001]//SAO[001]//STO[001]//Fe3O4[001]。

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