[发明专利]自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3 有效
申请号: | 202011301146.1 | 申请日: | 2020-11-19 |
公开(公告)号: | CN112410880B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 李江宇;钟高阔;安峰;欧云;訾孟飞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C23C14/08;C23C14/28;C30B23/02;C30B29/22;C30B29/32;C30B29/60 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 任志龙 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调控 生长 取向 柔性 支撑 fe base sub | ||
1.一种自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3O4薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)选择STO(001)基片,对其进行预处理,具体包括如下步骤:
a、将STO(001)基片浸于丙酮中,在60℃下超声清洗10min;
b、再将STO(001)基片浸于无水乙醇中,超声清洗5min;
c、接着将STO(001)基片浸于去离子水中,超声清洗5min;
d、最后用氮气对STO(001)基片进行干燥;
(2)采用脉冲激光沉积方法在预处理的STO(001)基片上依次制备得到单晶SAO层、STO层以及Fe3O4薄膜材料,具体包括如下步骤:
(a)将步骤(1)中预处理后的STO(001)基片用银浆粘贴在SiC导热片后加热干燥;
(b)再将粘贴有STO(001)基片的SiC导热片放置在脉冲激光沉积系统的生长腔体中激光加热台上,将腔体内的背景真空抽至5×10-7Torr以下,再将STO(001)基片加热至700℃,在加热过程中,向腔体内充入流动的氧气以达到3×10-6Torr氧分压,设置激光器的激光能量为300mJ,频率为10Hz;
(c)之后开启激光器轰击SAO靶材,使SAO沉积在STO(001)基片上,沉积时间为20min;
(d)随后保持STO(001)基片温度和腔内氧压不变,开启激光器轰击STO靶材,在STO/SAO表面沉积一层STO层,厚度为20-100nm,沉积时间为5min,沉积温度为650℃-750℃;
(e)最后将STO(001)基片温度降至400℃,同时保持氧分压不变,再次开启激光器轰击Fe3O4靶材,使Fe3O4沉积在STO/SAO表面,沉积时间为60min,制备得到STO/SAO/Fe3O4材料;
(3)对上述步骤制备得到的STO/SAO/STO/Fe3O4材料浸泡于去离子水中以溶解单晶SAO层,从而得到自支撑STO/Fe3O4薄膜材料,具体包括如下步骤:
(A)用有机聚合物支撑板与STO/SAO/STO/Fe3O4样品的Fe3O4薄膜进行紧密贴合;
(B)再将上述处理的样品放在90℃的加热台上,加热10min;
(C)然后将样品浸泡于去离子水中50min,使得单晶SAO层完全溶解;
(D)最后将贴合有Fe3O4薄膜的PDMS支撑板取出,制备得到自支撑的STO/Fe3O4材料;
制得的自支撑STO/Fe3O4薄膜材料为立方晶系的单晶,单晶Fe3O4的晶胞参数为:a=8.394Å,STO晶体的晶胞参数为:a=3.905Å,SAO晶体的晶胞参数为:a=15.844Å。
2.一种单晶结构,其特征在于,根据权利要求1所述的自调控生长取向的柔性自支撑单晶Fe3O4薄膜材料的制备方法制得而成,单晶结构依次为STO/SAO/STO/Fe3O4,其中STO为晶面取向为(001)的STO基片,SAO为STO基片上晶相外延生长的单晶SAO层,外延关系为STO[001]//SAO[001],在STO/SAO/STO层上生长的Fe3O4为单晶Fe3O4薄膜,其外延生长关系为STO[001]//SAO[001]//STO[001]//Fe3O4[001]。
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