[发明专利]苯二甲撑二异氰酸酯组合物、苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物、二液型树脂原料及树脂在审
| 申请号： | 202011302565.7 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN112409566A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 山崎聪;长谷川大辅;森田广一;大冢英晶;中嶋辰也;岛川千年;隈茂教;佐佐木祐明 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G18/71 | 分类号： | C08G18/71;C08G18/76;C08G18/38;C08L75/04;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李国卿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二甲 撑二异 氰酸 组合 改性 二液型 树脂 料及 | ||
1.光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，包含苯二甲撑二异氰酸酯、和下述化学式(1)所示的化合物，下述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且60ppm以下，
化学式(1)
[化学式1]
2.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且50ppm以下。
3.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且30ppm以下。
4.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且20ppm以下。
5.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且18ppm以下。
6.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且4.5ppm以下。
7.如权利要求1所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为0.6ppm以上且1.2ppm以下。
8.如权利要求1～7中任一项所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，还包含氯甲基苄基异氰酸酯，所述氯甲基苄基异氰酸酯的含有比例为0.2ppm以上且3000ppm以下。
9.如权利要求8所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述氯甲基苄基异氰酸酯的含有比例为0.2ppm以上且1600ppm以下。
10.如权利要求8或9所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，所述氯甲基苄基异氰酸酯的含有比例相对于所述化学式(1)所示的化合物的含有比例为20倍以上且800倍以下。
11.如权利要求1～10中任一项所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，下述化学式(3)所示的氰基苄基异氰酸酯的含有比例小于300ppm，
化学式(3)
[化学式3]
12.如权利要求1～11中任一项所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其特征在于，苯二甲撑二异氰酸酯的含有比例为99质量％以上。
13.光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物，其是权利要求1～12中任一项所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物被改性而得到的改性物组合物，其特征在于，
含有至少1种下述(a)～(i)的官能团，
(a)异氰脲酸酯基，
(b)脲基甲酸酯基，
(c)缩二脲基，
(d)氨基甲酸酯基，
(e)脲基，
(f)亚氨基噁二嗪二酮基，
(g)脲二酮基，
(h)脲酮亚胺基，
(i)碳二亚胺基。
14.光学材料原料，其特征在于，包含：
含有权利要求1～12中任一项所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯组合物及/或权利要求13所述的光学材料用苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物的异氰酸酯成分；和
含有活性氢基团的成分。
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