[发明专利]蒸镀掩模及其制造方法有效
| 申请号： | 202011303002.X | 申请日： | 2020-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN112877640B | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 山田哲行 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 邸万杰;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
准备基板，
在所述基板的第一面上涂敷光致抗蚀剂，
用包含第一波长和与所述第一波长不同的第二波长的光来照射所述光致抗蚀剂的一部分，以使抗蚀剂图案的至少一部分为锥形形状，
通过将除了被曝光的所述光致抗蚀剂的一部分以外的其他部分去除来形成抗蚀剂图案，
在所述基板的所述第一面上的从所述抗蚀剂图案露出的区域形成金属层，
去除所述抗蚀剂图案，
去除所述基板，
所述光中的所述第一波长与所述第二波长的混合比为3∶1〜3∶2。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：
所述第一波长为365nm，所述第二波长为405nm。
3.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：
所述锥形形状的锥角为45°以上且85°以下。
4.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：
所述锥形形状的锥角为60°以上且70°以下。
5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：
所述抗蚀剂图案的所述至少一部分具有随着靠近述基板的所述第一面而截面积减小的锥形形状。
6.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：
所述金属层的形成是将所述基板的第一面作为导体并通过电铸法来进行的。
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