[发明专利]有机发光显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置在审
申请号: | 202011303534.3 | 申请日: | 2020-11-19 |
公开(公告)号: | CN112420959A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 陈善韬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示 制作方法 面板 显示装置 | ||
1.一种有机发光显示基板,其特征在于,所述有机发光显示基板包括第一显示区和第二显示区,所述第一显示区为摄像区,所述第二显示区为常规显示区,所述有机发光显示基板包括:
衬底;
第一电极层,位于所述衬底的一侧,包括多个第一电极;
像素定义层,位于所述第一电极层远离所述衬底的一侧,所述像素定义层设置有多个贯穿所述像素定义层的开口,每个所述开口在所述衬底上的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底上的正投影内;
多个微透镜阵列,位于所述像素定义层远离所述衬底的一侧且位于所述第一显示区,所述微透镜阵列包括多个微透镜,所述微透镜阵列在所述衬底上的正投影与所述开口在所述衬底上的正投影无交叠。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示基板,其特征在于,还包括:
多个隔垫物,位于所述像素定义层远离所述衬底的一侧且位于所述第二显示区,所述隔垫物在所述衬底上的正投影与所述开口在所述衬底上的正投影无交叠;
所述隔垫物的材料与所述微透镜阵列的材料相同。
3.根据权利要求2所述的有机发光显示基板,其特征在于,所述微透镜为半球形,所述微透镜的直径为2μm~10μm,所述微透镜的厚度为1μm~2μm。
4.根据权利要求3所述的有机发光显示基板,其特征在于,所述微透镜的材料与所述像素定义层的材料相同。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的有机发光显示基板,其特征在于,所述微透镜的材料为光刻胶。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的有机发光显示基板,其特征在于,还包括:
缓冲层,位于所述衬底和所述第一电极层之间;
薄膜晶体管层,位于所述缓冲层与所述第一电极层之间;
平坦化层,位于所述薄膜晶体管层和所述第一电极层之间;
有机发光层,位于所述开口内且位于所述第一电极层远离所述衬底的一侧;
第二电极层,位于所述微透镜阵列远离所述衬底的一侧。
7.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的有机发光显示基板。
8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求7所述的显示面板。
9.一种有机发光显示基板的制作方法,所述有机发显示光基板包括第一显示区和第二显示区,所述第一显示区为摄像区,所述第二显示区为常规显示区,其特征在于,所述有机发光显示基板的制作方法包括:
提供一衬底在所述衬底的一侧形成第一电极层,所述第一电极层包括多个第一电极;
在所述第一电极层远离所述衬底的一侧形成像素定义层,并对所述像素定义层进行图形化处理以形成多个贯穿所述像素定义层的开口,每个所述开口在所述衬底上的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底上的正投影内;
在所述像素定义层远离所述衬底的一侧形成透光材料层,并对所述透光材料层进行图形化处理以形成多个微透镜阵列,所述微透镜阵列位于所述第一显示区,所述微透镜阵列包括多个微透镜,且所述微透镜阵列在所述衬底上的正投影与所述开口在所述衬底上的正投影无交叠。
10.根据权利要求9所述的有机发光显示基板的制作方法,其特征在于,对所述透光材料层进行图形化处理以形成多个所述微透镜阵列,包括:
对所述透光材料层进行图形化处理以形成多个所述微透镜阵列的同时,还形成多个隔垫物,所述隔垫物位于所述第二显示区,所述隔垫物在所述衬底上的正投影与所述开口在所述衬底上的正投影无交叠。
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