[发明专利]由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法

权利要求书

1.由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体结构式如下：

其中R₁为饱和烷烃或者环烷烃，R₂为氢或者甲基。

2.根据权利要求1所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的具体结构包括：

3.由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述合成方法的反应路线为：

合成步骤：

第一步格氏反应，在惰性气体保护下，1,3,3-三甲基二环[2.2.2]辛烷-2,5-二酮(Ⅰ)与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂反应，反应结束后加水淬灭，后处理纯化得到中间体(Ⅱ)；

第二步酯化反应，在碱性条件下，中间体(Ⅱ)与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯反应，后处理纯化后得到树脂单体(Ⅲ)。

4.根据权利要求3所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述格氏反应的温度为0-30摄氏度。

5.根据权利要求3所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述格氏反应的溶剂为无水乙醚。

6.根据权利要求3所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述酯化反应的反应温度0-70摄氏度。

7.根据权利要求3所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述酯化反应的溶剂选自四氢呋喃、甲苯或者氯仿。

8.根据权利要求3所述的由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，为保证酯化反应的碱性条件，需要向体系中添加三乙胺或者吡啶。