[发明专利]一种有光低钠釉面瓷片的制造方法

说明书

本发明提供了一种有光低钠釉面瓷片的制造方法,包括以下步骤:称取熔块原料，混合后加入熔块炉煅烧熔融，流出熔块炉水淬成熔块备用；称取有光面釉原料，球磨8‑12小时，得到釉浆；釉浆先取样过80‑120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1‑0.6％，筛余合格后，釉浆出球磨过80‑120目筛，陈腐备用；素坯经施底釉后，通过喷淋的方式将有光面釉均匀施到底釉上；印花之后烧成得到有光低钠釉面瓷片；本发明提供一种可以同时满足烧成温度低与烧成速度快这两种要求有光低钠釉面瓷片的制造方法，产品釉面平滑，光亮适中，满足了广大消费者对于具有美观釉面的瓷片的需求。

技术领域

本发明属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种有光低钠釉面瓷片的制造方法。

背景技术

瓷片是瓷砖中的一种，有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖，吸水率在10％-20％间，目前市面上吸水率普遍在16％左右，主要使用场所是室内。有光瓷片产品目前市场上占主流，在室内使用场景中，瓷片釉面是与人可以感观接触的部分，其釉面的美观度在很大程度上决定了消费者购买欲望的大小。

瓷片具有良好的釉面是成为产品畅销的关键因素之一，瓷片目前主流生产采用二次烧成，先素烧后釉烧，釉烧温度低于素烧温度，釉烧温度普遍在1100℃左右，相对瓷质砖大于1200℃的烧成温度，瓷片的釉烧温度就算低的了；因为其烧成温度低，瓷片面釉原料不能采用生料釉，现在主流采用熔块釉，熔块是把原料经混合后煅烧熔融水淬而的熔块，他把可溶性原料变为不溶于水的状态，将有毒性原料成为毒性较小的形式，熔块釉的烧成温度因适合于瓷片生产而大量使用。主流有光釉瓷片熔块占比达到90％以上，有光釉瓷片要想获得良好的釉面质量，熔块的质量成影响釉面质量的关键因素之一。

熔块性能因素有：1、釉的熔融温度范围，2、釉熔体的黏度、3、釉熔体的表面张力，4、釉的膨胀系数和坯釉适应性，5、釉的机械性质。在熔块组分中氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁等碱金属和碱土金属氧化物具有助熔作用，其中以氧化钠、氧化钾助熔效果最明显，氧化钠相对氧化钾形成的液相黏度较低，故熔融范围较窄，其黏度随温度的升高而降低的速度较快使瓷片釉面容易产生釉泡与针孔；氧化钠与氧化钾的线膨胀系数因子较大，当其含量较大时容易龟裂与热稳定性不过关，同时会降低釉的抗张强度，氧化钠相对氧化钾影响更大，氧化钠与氧化钾的含量对熔块的烧成温度起着重要的影响作用，氧化钠与氧化钾的含量越高，烧成温度越低，但氧化钠与氧化钾的含量增加会影响釉的热稳定性与抗张强度，同时容易产生针孔釉泡；反之氧化钠与氧化钾含量越低，釉的热稳定性与抗张强度越好，但是烧成温度会越高。

目前为降低生产成本普遍采用低温快烧，希望烧成温度低烧成速度快，而釉的热稳定性、抗张强度与低温快烧是矛盾的，这使得烧成温度低与烧成速度快这两种要求无法同时满足，因而十分有必要开发一种可以同时满足烧成温度低与烧成速度快这两种要求的瓷片制造方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可以同时满足烧成温度低与烧成速度快这两种要求有光低钠釉面瓷片的制造方法。

本发明的技术方案如下所述。

一种有光低钠釉面瓷片的制造方法,包括以下步骤:

步骤A、称取熔块原料，原料经混合后进行煅烧熔融，随后水淬成熔块备用；

步骤B、称取有光面釉原料，球磨8-12小时；

步骤C、步骤B制备的釉浆取样过80-120目筛，再过325目筛并将测筛余控制在0.6％以下，筛余合格前，釉浆继续球磨，筛余合格后，釉浆结束球磨并过80-120目筛，陈腐备用；

步骤D、素坯经施底釉后，将有光面釉均匀施到底釉上；

步骤E、施有有光面釉的砖坯经印花后烧成，得到有光低钠釉面瓷片。