[发明专利]图像配准方法、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202011309155.5 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN112435284A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 马姗姗;曹晓欢;薛忠 申请(专利权)人: 上海联影智能医疗科技有限公司
主分类号: G06T7/33 分类号: G06T7/33;G06T5/00;G06T7/90
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 杨东明;张冉
地址: 200232 上海市徐*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 图像 方法 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像配准方法,其特征在于,包括:

获取目标待配准图像到目标参考图像的目标变形场;

将所述目标变形场输入变形场平滑模型,得到处理后的目标变形场;

根据处理后的目标变形场将所述目标待配准图像配准至所述目标参考图像;

其中,所述变形场平滑模型是通过以下步骤训练得到的:

针对训练样本中的样本待配准图像和样本参考图像,获取样本待配准图像到对应样本参考图像的原始变形场,并将所述原始变形场输入变形场平滑模型;

根据所述变形场平滑模型输出的第一变形场与所述原始变形场计算第一损失值;

对所述第一变形场进行求逆,得到第二变形场;

根据所述第二变形场与所述第一变形场计算第二损失值;

根据所述第一损失值和所述第二损失值调整所述变形场平滑模型的参数,直至满足收敛条件,输出训练好的变形场平滑模型。

2.如权利要求1所述的图像配准方法,其特征在于,所述将所述目标变形场输入变形场平滑模型的步骤具体包括:

在所述目标参考图像中选取目标关键点;

对所述目标变形场中与非目标关键点对应的变形场值进行预处理;其中,所述非目标关键点为所述目标参考图像中除目标关键点以外的点;

将进行预处理之后的目标变形场输入变形场平滑模型。

3.如权利要求2所述的图像配准方法,其特征在于,所述在所述目标参考图像中选取目标关键点的步骤包括:在所述目标参考图像的边缘区域选取目标关键点。

4.如权利要求2所述的图像配准方法,其特征在于,所述在所述目标参考图像中选取目标关键点的步骤包括:

根据目标参考图像与目标待配准图像中差别超过第一预设阈值的像素点确定所述目标参考图像中的第一目标区域;

从所述第一目标区域中选取目标关键点。

5.如权利要求4所述的图像配准方法,其特征在于,

所述根据目标参考图像与目标待配准图像中差别超过预设阈值的像素点确定所述目标参考图像中的第一目标区域的步骤具体包括:

获取目标参考图像中各个像素点的值与目标待配准图像中对应像素点的值之间的第一差值;

若所述第一差值超过第一预设阈值,则将所述目标参考图像中对应的像素点作为第一目标像素点;

确定所述第一目标像素点构成的区域为第一目标区域;

和/或,

从所述第一目标区域中选取目标关键点的步骤具体包括:

从所述第一目标区域的边缘区域中选取目标关键点。

6.如权利要求2所述的图像配准方法,其特征在于,所述将所述原始变形场输入变形场平滑模型的步骤具体包括:

在样本参考图像中选取样本关键点;

对所述原始变形场中与非样本关键点对应的变形场值进行预处理;其中,所述非样本关键点为所述样本参考图像中除样本关键点以外的点;

将进行预处理之后的原始变形场输入变形场平滑模型。

7.如权利要求6所述的图像配准方法,其特征在于,所述在样本参考图像中选取样本关键点的步骤包括:

在所述样本参考图像的边缘区域选取样本关键点;和/或,

根据样本参考图像与样本待配准图像中差别超过第二预设阈值的像素点确定所述样本参考图像中的第二目标区域;

从所述第二目标区域中选取样本关键点。

8.如权利要求1所述的图像配准方法,其特征在于,

所述根据所述第二变形场与所述第一变形场计算第二损失值,具体包括:

根据所述第一变形场中目标体素的值与所述目标体素在所述第二变形场中对应位置的值计算第二损失值;

和/或,

所述根据所述第一损失值和第二损失值调整所述变形场平滑模型的参数,具体包括:

将所述第一损失值和所述第二损失值进行加权求和,得到第三损失值;

根据所述第三损失值调整所述变形场平滑模型的参数。

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