[发明专利]一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜及制备方法

权利要求书

1.一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一：清洁阴极靶材，依次装好1号Al靶靶材、2号Ti靶靶材、3号Y靶靶材；

步骤二：将洗净的待镀零件放入处理好的镀膜夹具，置于镀膜机的零件盘内，压紧真空室门，开始抽真空；

步骤三：背景真空度≤3.0×10^-6torr时，启动镀膜程序；

步骤四：预溅射靶材，各靶预溅射时间根据表面状态，直至无飞溅点子为佳；

步骤五：溅射Y₂O₃膜层，阴极功率3.8kW、氩气60～70sccm、离子源功率2kW、氧气25sccm、沉积速率0.23nm/s；

步骤六：溅射TiO₂膜层，阴极功率4kW、氩气50～60sccm、离子源功率3.5kW、氧气30～40sccm、沉积速率0.05nm/s；

步骤七：根据实际光谱要求重复步骤五和步骤六；

步骤八：溅射Al₂O₃膜层，阴极功率3.8kW、氩气60～70sccm、离子源功率3kW、氧气30～40sccm、溅射速率0.18nm/s；

步骤九：镀制结束，10分钟后取件。

2.如权利要求1所述的一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中离子源使用ICP等离子体源。

3.如权利要求1所述的一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中溅射阴极使用直流脉冲直流电源驱动。

4.如权利要求1所述的一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中离子源离化气体使用99.99%纯度的氧气。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法得到的可见红外窗口减反射膜。