[发明专利]基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置在审
申请号: | 202011312066.6 | 申请日: | 2020-11-20 |
公开(公告)号: | CN114518658A | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 杨佳苗;何巧芝;刘林仙;沈阳;龚雷;邹高宇 | 申请(专利权)人: | 绍兴钜光光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 312300 浙江省绍兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 全光场 调控 散射 介质 聚焦 方法 装置 | ||
1.基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法,其特征在于:打开激光光源,所述激光光源经准直扩束后变为一定口径大小的准直光束;所述准直光束经偏振分光装置后分解为两束偏振方向正交的准直光束,定义所述两束偏振方向正交的准直光束的偏振方向分别为H方向和V方向;将所述H方向偏振的准直光束和V方向偏振的准直光束分别输入两个光场调控装置,由光场调控装置对光场的相位和振幅信息同时进行调制,进而实现对H方向偏振的复振幅光场和V方向偏振的复振幅光场的调控;所述H方向偏振的复振幅光场和V方向偏振的复振幅光场经过合束装置后合束,产生振幅、相位和偏振信息可调的目标全光场;所述目标全光场经过散射介质扰乱后形成散斑;通过改变所述H方向偏振的复振幅光场和V方向偏振的复振幅光场来调控目标全光场的振幅、相位和偏振信息,进而优化经过所述散射介质扰乱后形成的散斑分布,得到所需形成的聚焦光束。
2.根据权利要求1所述的基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法,其特征在于:所述光场调控装置是通过基于数字微镜阵列的超像素调控方法来对目标复振幅光场进行调控的;光入射到所述光场调控装置后照射在数字微镜阵列上,将所述数字微镜阵列的每
3.根据权利要求1所述的基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法,其特征在于:所述光场调控装置是通过基于数字微镜阵列的二元计算全息调控方法来对复振幅光场进行调控的;对所述数字微镜阵列中每个微镜进行开和关的二进制强度调控,通过4
4.根据权利要求2或3所述的基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法,其特征在于:将所述数字微镜阵列改为液晶空间光调制器,由基于液晶空间光调制器的H方向光场调控装置或V方向光场调控装置来产生所需的H方向偏振的复振幅光场或V方向偏振的复振幅光场。
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