[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法有效
申请号: | 202011313416.0 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN112415863B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 原笃史 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 薛平;周晓飞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 组件 | ||
1.一种曝光装置,其通过投影光学系统对往第1方向移动中的物体相对于照明光进行扫描曝光,所述曝光装置具备:
第1移动体,其配置在所述投影光学系统的下方并保持所述物体;
基准构件,其成为所述第1移动体在与所述投影光学系统的光轴正交的既定平面中移动的基准;
第1驱动部,其在所述既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向上使所述第1移动体移动;
第2移动体,其相对于由所述第1驱动部造成的所述第1移动体的移动而并进移动;
测量部,其测量第1信息、第2信息、第3信息、第4信息,其中所述第1信息为所述第2移动体相对于所述基准构件在所述第1方向上的相对位置信息,所述第2信息为所述第2移动体相对于所述基准构件在所述第2方向上的相对位置信息,所述第3信息为所述第1移动体相对于所述第2移动体的相对位置信息,所述第4信息为根据所述第1信息、所述第2信息、以及所述第3信息为所述第1移动体相对于所述基准构件的相对位置信息;以及
第2驱动部,其在所述测量部测量所述第1信息、所述第2信息、以及所述第3信息时,在所述第1移动体通过所述第1驱动部朝向所述第1方向移动时,使所述第2移动体于所述第1方向上移动,且在在所述第1移动体通过所述第1驱动部朝向所述第2方向移动时,使所述第2移动体于所述第2方向上移动;
所述第1驱动部根据所述测量部测量的所述第4信息,使所述第1移动体于所述既定平面内移动。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,
所述测量部具有第1测量部,其测量所述第1信息与所述第2信息;
所述第1测量部具有:
第1格子构件,其具有多个格子区域,且沿著所述第1方向设置在所述基准构件上;
第1读头,其於所述第1格子构件上移動,且相对于所述第2移动体的於所述第1方向上的移动而并进移动,並對所述第1格子构件照射第1测量光束;
第2格子构件,其具有多个格子区域,其相对于所述第2移动体的於所述第1方向上的移动而并进移动;以及
第2读头,其通過所述第2移动体的朝向所述第2方向的移动,一边於所述第2格子构件上移動,一边對所述第2格子构件照射第2测量光束;
所述第1读头设置于所述第2格子构件;
所述第2读头设置于所述第2移动体。
3.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,
所述第1格子构件具有在所述第2方向彼此分离,且在所述基准构件具有沿所述第1方向设置的多个格子区域的第1构件与第2构件;
所述第1读头在所述第1构件上沿所述第1方向移动;
所述第2格子构件架设于所述第1构件与所述第2构件之间,并与所述第1读头的移动并进移动;
所述第2读头在所述第2格子构件上沿所述第2方向移动;
所述第1测量部自所述第1读头对所述第1构件照射所述第1测量光束以测量所述第1读头相对于所述基准构件的在所述第1方向上的相对位置信息亦即第5信息、自所述第2读头对所述第2格子构件照射所述第2测量光束以测量所述第2读头相对于所述第2格子构件的在所述第2方向上的相对位置信息亦即第6信息,并根据所述第5信息及所述第6信息测量所述第1信息及所述第2信息。
4.根据权利要求2或3所述的曝光装置,其中,
所述测量部具有第2测量部,其测定所述第1信息及所述第2信息;
所述第2测量部将所述第1测量部及所述投影光学系统分隔开地设置。
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