[发明专利]单层聚合物膜和电子装置

说明书

在一个方面，单层聚合物膜包含25至97.5wt％的具有1.74或更小的折射率的聚酰亚胺，0.5至20wt％的消光剂，以及1至30wt％的黑色着色剂。在空气侧，所述单层聚合物膜具有33或更小的L*颜色和10或更小的60°光泽度。在另一个方面，单层聚合物膜包含80至99wt％的具有1.74或更小的折射率的聚酰亚胺，以及1至30wt％的黑色着色剂。所述单层聚合物膜的表面已经被纹理化并且具有7μm或更大的最大粗糙度(S_pv)、33或更小的L*和10或更小的60°光泽度。

技术领域

本公开的领域是单层聚合物膜、覆盖层和电子装置。

背景技术

工业越来越期望用于电子应用的聚酰亚胺膜在外观上是哑光的，具有特定 的颜色、对处理和电路加工的耐久性，并且当用作覆盖层时，提供安全性以防 止由覆盖层保护的电子部件的不期望的目视检查。单层哑光有光泽膜不具有小 于30的L*颜色，提供工业所需的深的、丰富的饱和色。典型地，随着消光剂 的量增加，膜的颜色变弱。来自消光剂的增加的表面粗糙度的效果是颜料颜色的稀释，使得它看起来更浅且更不饱和。这是由镜面反射(白光)的增加的散 射对漫反射(在感知颜料颜色的情况下)的稀释引起的。表面越粗糙，光泽度越低，并且镜面反射的散射越大。因此，随着光泽度降低，L*(亮度)典型地 增加。添加更多着色剂不会降低L*颜色。因此，同时实现低光泽度和低L*颜色是困难的。为了克服这些挑战，美国专利号9,469,781、9,481,150和9,481,809 使用多层结构，其中将掺有消光剂、炭黑和亚微米颗粒的共混物的薄聚酰亚胺 层粘附到较厚的基础聚酰亚胺层上，使得多层膜能够实现低L*颜色和低光泽 度二者的期望组合。多层覆盖层在电路生产中的成功与否取决于在打磨 (pumice)、表面精整(deseamer)和等离子体工艺过程中的蚀刻厚度。对于多层膜的非常薄的外层，存在在这些工艺过程中蚀刻膜的外层，暴露基础层的风险，这可能导致显著的光泽度和颜色变化。

随着电子装置及其电子部件变得越来越薄和紧凑，形成具有低光泽度和低 颜色二者的覆盖层的挑战变得更加困难。在一些情况下，对更薄覆盖层的需求 限制了消光剂的使用，所述消光剂可能具有大约为膜厚度的粒度。对以下单层 聚合物膜存在需要，所述聚合物膜在外观上是哑光的，具有深的、丰富的饱和色，并且当用作覆盖层时提供充足的光密度以提供视觉安全性，同时具有可接 受的电气特性(例如，介电强度)、机械特性、以及对处理和电路加工的耐久 性。该膜还应该对处理后蚀刻工艺具有更多耐受性。

发明内容

在第一方面，单层聚合物膜包含25至97.5wt％的具有1.74或更小的折射 率的聚酰亚胺，0.5至20wt％的消光剂，以及1至30wt％的黑色着色剂。在空 气侧，所述单层聚合物膜具有33或更小的L*颜色和10或更小的60°光泽度。

在第二方面，用于印刷电路板的覆盖层包含第一方面的所述单层聚合物膜。

在第三方面，单层聚合物膜包含80至99wt％的具有1.74或更小的折射率 的聚酰亚胺，以及1至30wt％的黑色着色剂。所述单层聚合物膜的表面已经 被纹理化并且具有7μm或更大的最大粗糙度(S_pv)、33或更小的L*和10或 更小的60°光泽度。

在第四方面，用于印刷电路板的覆盖层包含第三方面的所述单层聚合物膜。

前面的一般性描述和以下详细描述仅是示例性的和解释性的，并且不限制 如所附权利要求所限定的本发明。

具体实施方式

在第一方面，单层聚合物膜包含25至97.5wt％的具有1.74或更小的折射 率的聚酰亚胺，0.5至20wt％的消光剂，以及1至30wt％的黑色着色剂。在空 气侧，所述单层聚合物膜具有33或更小的L*颜色和10或更小的60°光泽度。

在第一方面的一个实施例中，所述单层聚合物膜进一步包含50wt％或更 少的选自由亚微米气相金属氧化物、亚微米胶态金属氧化物及其混合物组成的 组的亚微米颗粒。