[发明专利]一种便于清洗器皿的化学实验用试验台及其使用方法

权利要求书

1.一种便于清洗器皿的化学实验用试验台，其特征在于，包括：

实验箱体(1)，所述实验箱体(1)的上方设置有实验台板(2)，所述实验箱体(1)的外壁一侧的下部焊接有水箱(7)，所述实验箱体(1)的外壁位于水箱(7)的顶部焊接有清洗箱体(6)，所述水箱(7)的内腔底部一侧螺丝连接有潜水泵(27)，所述清洗箱体(6)的内腔设置有器皿清洗槽(35)，所述清洗箱体(6)的内壁一侧的上部和下部均横向焊接有第三支杆(36)，所述清洗箱体(6)相对于第三支杆(36)的一侧内壁的上部和下部均横向焊接有第四支杆(37)，所述第三支杆(36)的一端端部均与器皿清洗槽(35)靠近第三支杆(36)的一侧外壁的上部和下部相焊接，所述第四支杆(37)的一端端部均与器皿清洗槽(35)靠近第四支杆(37)的一侧外壁的上部和下部相焊接，所述潜水泵(27)的进水端连通有第一水管(28)，所述第一水管(28)的一端端部延伸至水箱(7)的内腔底部，所述潜水泵(27)的出水端连通有第二水管(29)，所述第二水管(29)的一端贯穿于水箱(7)的外壁下部，所述水箱(7)的一侧外壁下部安装有三通阀(30)，所述第二水管(29)的一端端部与三通阀(30)的进水端相连通，所述三通阀(30)分别设有两个出水端，且所述三通阀(30)的两个出水端分别连通有第三水管(31)和排水管(32)，所述第三水管(31)的一端端部向上延伸贯穿于清洗箱体(6)的外壁并与器皿清洗槽(35)的外壁相连通；

其中，所述器皿清洗槽(35)的内壁前侧、后侧、左侧和右侧均安装有若干高压喷头(39)，若干所述高压喷头(39)等距设置，所述水箱(7)的内腔顶部均匀安装有若干单向阀(38)，若干单向阀(38)的顶部分别贯穿于水箱(7)的顶部和清洗箱体(6)的底部，所述器皿清洗槽(35)的底部安装有排水口(40)，所述排水口(40)与器皿清洗槽(35)的内腔相连通。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洗器皿的化学实验用试验台，其特征在于：所述实验箱体(1)的内腔中部横向焊接有固定板(10)，所述固定板(10)的顶部中部固定有伺服电机(12)，所述伺服电机(12)的输出端焊接有丝杆(13)，所述丝杆(13)的一端端部延伸至实验箱体(1)的内腔顶部并与实验箱体(1)的内腔顶部转动连接，所述实验箱体(1)的内腔位于固定板(10)的上方横向滑动连接有滑动板(14)，所述丝杆(13)的一端端部贯穿于滑动板(14)的对角线交点处，所述丝杆(13)与滑动板(14)螺纹连接，所述滑动板(14)的顶部一侧的前侧和后侧均垂直焊接有第一支杆(15)，所述滑动板(14)的顶部远离第一支杆(15)的一侧的前侧和后侧均垂直焊接有第二支杆(16)，所述第一支杆(15)和第二支杆(16)的一端端部均贯穿于实验箱体(1)的顶部并分别与实验台板(2)的底部两侧相焊接，所述实验箱体(1)的内壁的两侧位于固定板(10)的上方均焊焊接有第一限位块(17)，所述实验箱体(1)的内壁的两侧的顶部均焊接有第二限位块(18)。

3.根据权利要求2所述的一种便于清洗器皿的化学实验用试验台，其特征在于：所述第一限位块(17)的顶部均开设有第一凹槽(23)，所述第一凹槽(23)内均安装有第一压力传感器(24)，所述第二限位块(18)的底部均开设有第二凹槽(25)，所述第二凹槽(25)内均安装有第二压力传感器(26)，所述固定板(10)的顶部靠近伺服电机(12)的一侧安装有防护盒(19)，所述防护盒(19)的内腔底部安装有电路板(20)，所述电路板(20)的上表面安装有单片机(21)。

4.根据权利要求2所述的一种便于清洗器皿的化学实验用试验台，其特征在于：所述实验箱体(1)远离第二开关(5)的一侧外壁的上部安装有第一开关(4)，所述第一开关(4)的输出端通过导线与单片机(21)的输入端电性连接，所述单片机(21)与电路板(20)电性连接，所述电路板(20)的输出端通过导线与伺服电机(12)的输入端电性连接，所述第一压力传感器(24)和第二压力传感器(26)的输出端通过导线与单片机(21)的输入端电性连接。