[发明专利]光照射装置及光照射方法

说明书

本发明提供一种光照射装置及光照射方法，其为对工件进行加热而照射光的光照射装置及光照射方法，不需要作为准备阶段的长时间的实验，且能够适当地抑制稼动率的降低、生产节拍时间的长时间化。光照射装置具备：具备：第一工作台，能够将从第一待机位置朝向照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；第二工作台，能够将从第二待机位置朝向照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；控制部，分别控制第一工作台和第二工作台的移动，以使第一工件和第二工件交替通过照射区域；以及加热部，分别设置于第一工作台以及第二工作台，能够对所载置的工件进行加热。在一方的工作台进行往返移动的期间，载置于另一个工作台的工件被加热部加热。

技术领域

本发明涉及光照射装置及光照射方法，尤其涉及对工件台上的工件进行加热而照射光的光照射装置及光照射方法。

背景技术

以往，关于以液晶面板为首的液晶显示元件的取向膜、视场角补偿膜的取向层等取向处理，采用照射规定波长的偏振光进行取向的被称为光取向的技术。

在这样的光取向技术中，近年来，提出了并用偏振光照射和加热的方法。

例如在专利文献1中公开了一种偏振光照射装置，其具备对载置于工作台面上的基板进行加热的加热机构。该技术是在基板的表面温度不稳定的状态和基板的表面温度稳定的状态下改变搬送台的移动速度的技术。具体而言，使回路中的搬送台的移动速度比去路中的搬送台的移动速度慢。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2019-101226号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

在上述专利文献1所记载的技术中，在基板的表面温度不稳定的状态下，很难确定什么样的工作台的移动速度是适当的。这是因为，偏振光照射后的基板的状态是好是坏，其原因是基于基板的表面温度还是基于工作台的移动速度很难区分。为了明确该区分，需要在各种温度条件下反复进行使工作台的移动速度变化的实验，在求出最佳的工作台移动速度之前需要很多的时间。

使基板的表面温度上升到预先设定的期望的温度，在该温度下稳定后进行偏振光照射，这样容易求出最佳的工作台移动速度。然而，在该情况下，需要等待偏振光的照射，直到基板的温度在期望的温度下稳定为止。即，需要设置规定的待机时间，装置的稼动率降低。

因此，本发明的课题在于提供一种光照射装置及光照射方法，其为对工件进行加热而照射光的光照射装置及光照射方法，不需要作为准备阶段的长时间的实验，且能够适当地抑制稼动率的降低、生产节拍时间的长时间化。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明所涉及的光照射装置的一个方式是对通过预先设定的照射区域的工件照射光的光照射装置，其特征在于，具备：第一工作台，载置第一工件，在通过上述照射区域的输送轴上，能够将从设定于上述照射区域的一侧的第一待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；第二工作台，载置第二工件，在通过上述照射区域的输送轴上，能够将从设定于上述照射区域的另一侧的第二待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；控制部，分别控制上述第一工作台和上述第二工作台的移动，以使上述第一工件和上述第二工件交替通过上述照射区域；以及加热部，分别设置于上述第一工作台以及上述第二工作台，能够对所载置的工件进行加热，在上述第一工作台以及上述第二工作台中载置有工件的一方的工作台进行往返移动的期间，载置于另一个工作台的工件被上述加热部加热。

这样，采用具备载置有工件的2个工作台并对各工件交替地照射光的所谓的双工作台方式。由此，在向一个工作台的光照射中，能够进行另一个工作台的工件更换作业等。因此，与工作台仅为1个的情况相比，能够削减生产节拍时间，提高稼动率。