[发明专利]分布式绕组蒸发冷却变压器有效
申请号: | 202011328683.5 | 申请日: | 2020-11-24 |
公开(公告)号: | CN112447376B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 熊斌;黄康杰;石华林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | H01F27/28 | 分类号: | H01F27/28;H01F27/18;H01F27/32 |
代理公司: | 北京瀚仁知识产权代理事务所(普通合伙) 11482 | 代理人: | 宋宝库;屠晓旭 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分布式 绕组 蒸发 冷却 变压器 | ||
1.一种分布式绕组蒸发冷却变压器,其特征在于,该变压器包括变压器箱体、铁芯、多层低压绕组浸渍腔体、多层高压绕组浸渍腔体和冷凝装置;所述铁芯的铁芯柱上由内向外依次绕有低压绕组和高压绕组;
多层所述低压绕组浸渍腔体沿铁芯柱的轴向平行设置,用于分别容纳多层所述低压绕组,以构成用于所述低压绕组中的液态冷却工质自交替灌注循环的装置;多层所述高压绕组浸渍腔体沿铁芯柱的轴向平行设置,用于分别容纳多层所述高压绕组,以构成用于所述高压绕组中的液态冷却工质自交替灌注循环的装置;
相邻所述高压绕组浸渍腔体之间均设置有第一组支撑组件,所述第一组支撑组件包括多个第一支撑垫块,相邻两个所述第一支撑垫块之间形成气态冷却工质的外溢通道;相邻所述低压绕组浸渍腔体之间均设置有第二组支撑组件,所述第二组支撑组件包括多个第二支撑垫块,相邻两个所述第二支撑垫块之间形成气态冷却工质的外溢通道;
所述冷凝装置设置于所述变压器箱体的外侧,所述冷凝装置通过进气管收集气态冷却工质,通过出液管将冷凝后的液态冷却工质输送至所述低压绕组浸渍腔体、所述高压绕组浸渍腔体;
各层所述高压绕组浸渍腔体和各层所述低压绕组浸渍腔体均设有溢流通道,上下相邻两层所述高压绕组浸渍腔体中的溢流通道交错设置,上下相邻两层所述低压绕组浸渍腔体中的溢流通道交错设置;上层溢流通道与下层高压绕组浸渍腔体相匹配,上层溢流通道与下层低压绕组浸渍腔体相匹配,使得从上层的对应浸渍腔体溢出的液态冷却工质流入下层对应浸渍腔体的内部。
2.根据权利要求1所述的分布式绕组蒸发冷却变压器,其特征在于,所述高压绕组浸渍腔体为第一环状凹槽结构;所述第一环状凹槽结构包括用于容纳所述高压绕组的第一腔室,所述第一腔室的侧壁顶部设置有环状的第一阶梯,以收集从所述出液管中流出的或者从上一层所述高压绕组浸渍腔体中溢流出的液态冷却工质;
所述低压绕组浸渍腔体为第二环状凹槽结构,所述第二环状凹槽结构包括用于容纳所述低压绕组的第二腔室,所述第二腔室的侧壁顶部设置有环状的第二阶梯,以收集从所述出液管中流出的或者从上一层所述低压绕组浸渍腔体中溢流出的液态冷却工质;
所述第一环状凹槽结构与所述第二环状凹槽结构同心设置;
所述第一腔室的深度大于所述高压绕组的高度;所述第二腔室的深度大于所述低压绕组的高度;所述第一腔室的壁厚、所述第二腔室的壁厚与所述高压绕组与所述低压绕组之间的绝缘距离相匹配。
3.根据权利要求2所述的分布式绕组蒸发冷却变压器,其特征在于,所述高压绕组与所述第一腔室间隙设置,以形成液态冷却工质的流道;
所述低压绕组与所述第二腔室间隙设置,以形成液态冷却工质的流道。
4.根据权利要求2所述的分布式绕组蒸发冷却变压器,其特征在于,所述第一阶梯包括第一阻挡部和第一承载部,所述第一承载部与所述第一阻挡部构成下阶梯结构,所述第一阻挡部用于阻挡流入所述第一腔室内部的液态冷却工质的外溅;所述第一承载部为凹弧结构,以过渡承接流入所述第一腔室内部的液态冷却工质;
所述第二阶梯包括第二阻挡部和第二承载部,所述第二承载部与所述第二阻挡部构成下阶梯结构,所述第二阻挡部用于阻挡流入所述第二腔室内部的液态冷却工质的外溅;所述第二承载部为凹弧结构,以过渡承接流入所述第二腔室内部的液态冷却工质。
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