[发明专利]一种可饱和吸收体的制备方法及多模光纤激光器

权利要求书

1.一种石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体的制备方法，所述石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体包括多模微纳光纤和通过光学沉积法沉积在其上面的石墨烯沉积层；其特征在于，所述制备方法包含如下步骤：

步骤一、将渐变折射率多模光纤剥去涂覆层后采用熔融拉锥法拉锥成多模微纳光纤；

步骤二、将超声作用后的石墨烯/二甲基甲酰胺分散液滴在所述多模微纳光纤上，通过光学沉积法将石墨烯沉积到多模微纳光纤表面，从而制备成可饱和吸收体。

2.根据权利要求1所述的石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述多模微纳光纤是由纤芯直径为50微米或62.5微米的普通渐变折射率多模光纤通过熔融拉锥法拉锥至直径为4-20微米而来的。

3.根据权利要求1所述的石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述石墨烯/二甲基甲酰胺分散液的浓度为0.05-0.25mg/ml。

4.一种全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，包括：泵浦源和谐振腔，其中，谐振腔内包含石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体，所述石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体采用如权利要求1-3任一所述的制备方法制备的，所述石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体包括多模微纳光纤和通过光学沉积法沉积在其上面的石墨烯沉积层。

5.根据权利要求4所述的全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，所述谐振腔为环形腔，包括泵浦合束器、增益光纤、第一偏振控制器、石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体、光耦合器、偏振无关隔离器和第二偏振控制器；通过依次连接泵浦合束器、增益光纤、第一偏振控制器、石墨烯包覆多模微纳光纤可饱和吸收体、光耦合器、偏振无关隔离器、第二偏振控制器和泵浦合束器形成环形腔；泵浦源则通过泵浦合束器的另一端连接进入谐振腔，而光耦合器的另一端作为激光腔的输出。

6.根据权利要求5所述的全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，所述增益光纤为掺镱少模光纤，纤芯直径为10-20微米，包层直径为125微米。

7.根据权利要求5所述的全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，所述泵浦合束器与增益光纤、第二偏振控制器连接的两根尾纤皆为少模光纤，纤芯直径为10-20微米，包层直径为125微米，而与泵浦源连接的另一端则为多模光纤，纤芯直径为105微米，包层直径为125微米；谐振腔内其余所使用的光纤都是渐变折射率多模光纤，纤芯直径为50微米或62.5微米，包层直径为125微米。

8.根据权利要求5所述的全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，所述泵浦源的工作波长为980nm。

9.根据权利要求5所述的全光纤结构高能量调Q锁模多模光纤激光器，其特征在于，所述光耦合器的耦合比为90:10，其中10％端作为输出端。