[发明专利]一种基于喷雾辅助的高通量液滴阵列快速制备装置

权利要求书

1.一种基于喷雾辅助的液滴阵列制备装置在微生物培养或生化反应中的应用，其特征在于，该装置自上而下依次包括：

气溶胶液滴发生装置，用于对液体进行雾化处理以形成气溶胶液滴；该气溶胶液滴发生装置是由雾化器与固定底座衔接而成；所述底座上开设有出口，用于向下输出所述气溶胶液滴；所述雾化器选用超声雾化片；

气溶胶液滴约束沉降通道，用于约束所述气溶胶液滴的沉降和扩散区域，并形成液滴扩散沉降通道，从而对所述液滴的沉降和收集区域进行控制；

液滴收集界面，用于对沉降后得到的液滴进行承接，收集得到液滴阵列；

其中，所述液滴约束沉降通道的末端与所述液滴收集界面之间为无缝衔接，以避免所述气溶胶液滴外漏，影响液滴的粒径分布；

所述液滴约束沉降通道的总高度H不小于所述超声雾化片喷雾距离s的1.2倍，确保液滴在承接面上是自由随机沉降，从而形成粒径分布均匀的液滴阵列；

所述液滴收集界面为培养皿内底面；所述液滴阵列制备装置还配合设置有温差供给组件，该温差供给组件用于对液滴收集完成后经过密封的培养皿的底面提供温差，使培养皿内底面的温度低于培养皿空腔的温度，从而抑制培养皿内液滴的热蒸发，便于培养皿内液滴的长期保存。

2.如权利要求1所述应用，其特征在于，所述底座安装多个超声雾化片；

在所述气溶胶液滴约束沉降通道的末端还设置有带有预先设计图案的掩膜，该掩膜用于图案化所述液滴收集界面上液滴的收集。

3.如权利要求2所述应用，其特征在于，所述掩膜为疏水性掩膜，并含有支撑脚，所述支撑脚用于支撑掩膜使掩膜悬于所述液滴收集界面之上。

4.如权利要求3所述应用，其特征在于，所述掩膜的支撑脚的高度不超过1mm。

5.如权利要求1所述应用，其特征在于，所述超声雾化片保持水平，其喷雾方向垂直于水平线。

6.如权利要求1所述应用，其特征在于，所述底座与所述液滴约束沉降通道通过螺口进行连接，以确保连接处的密封性；所述液滴约束沉降通道是采用透明通道，以便于观察。

7.如权利要求6所述应用，其特征在于，所述底座与所述液滴约束沉降通道均采用塑料材料。

8.如权利要求7所述应用，其特征在于，所述底座与所述液滴约束沉降通道是由带有瓶盖的塑料瓶制作而成，其中，所述底座是将该塑料瓶的瓶盖开口制成，所述液滴约束沉降通道是将该塑料瓶的瓶体切割瓶底、形成开放通道制作而成。

9.如权利要求1所述应用，其特征在于，超声雾化片出雾孔径为5-9微米。

10.如权利要求1所述应用，其特征在于，所述液滴收集界面为接触角不小于60°的光滑界面。

11.如权利要求10所述应用，其特征在于，所述液滴收集界面为光滑透明界面。