[发明专利]一种高光砖及其生产工艺在审

专利信息
申请号: 202011333171.8 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN112390533A 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 李双胜;宁红军;陈祚华;操龙飞;曾文中 申请(专利权)人: 珠海市斗门区旭日陶瓷有限公司
主分类号: C03C8/20 分类号: C03C8/20;C04B41/86
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 王贤义
地址: 519000 广东省珠海市斗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 高光砖 及其 生产工艺
【说明书】:

发明公开并提供了一种砖体密度大、吸水率低的高光砖及其生产工艺。本发明中的高光砖,包括砖坯体,所述砖坯体外喷施有表釉,所述表釉按百分比算,包含以下组分:不透水熔块70%‑85%,钠长石1%‑5%,白云石1%‑5%,烧滑石4%‑8%,硅酸锆1%‑10%,高岭土1%‑10%。本发明适用于高光砖的生产制作领域。

技术领域

本发明涉及一种高光砖及其生产工艺。

背景技术

高光砖具有釉面光滑、砖面高光的特点,是用以配搭墙砖以及地砖铺贴的装饰砖。但一般的高光砖其砖体密度低,砖体吸水率高,吸水率约在5%-10%,容易热胀冷缩造成瓷砖龟裂的现象,影响砖体外观以及使用寿命。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供了一种砖体密度大、吸水率低的高光砖及其生产工艺。

本发明中的高光砖,包括砖坯体,所述砖坯体外喷施有表釉,所述表釉按百分比算,包含以下组分:不透水熔块70%-85%,钠长石1%-5%,白云石1%-5%,烧滑石4%-8%,硅酸锆1%-10%,高岭土1%-10%。

更优地,所述表釉按百分比算,包含以下组分:不透水熔块78%,钠长石3%,白云石3%,烧滑石6%,硅酸锆5%,高岭土5%。

本发明中用于生产上述高光砖的工艺,包括以下步骤:

A.将砖坯体原料进行球磨过筛,得到泥浆,将表釉的原料分别进行球磨过筛,得到表釉浆;

B.将步骤A所得的泥浆进行喷雾干燥制粉;

C.将步骤B所得的粉料通过高压压制成砖坯体;

D.对砖坯体施喷第一层表釉;

E.对砖坯体施喷第二层表釉;

F.烧制成型。

本发明的有益效果在于:本发明的表釉中采用烧滑石代替以往的釉料配方硅酸锆,使得釉层透水性大大降低,同时本发明中的砖坯体的压制是采用高压压制成型,增加砖体本身的密度,降低砖体吸水率。

本发明的表釉采用两次施喷,解决坯釉结合状况和釉面针孔问题,同时双釉层再次降低透水性,从而降低砖体以及釉面的吸水率。

具体实施方式

本发明中的高光砖,包括砖坯体,所述砖坯体外喷施有表釉,所述表釉按百分比算,包含以下组分:不透水熔块70%-85%,钠长石1%-5%,白云石1%-5%,烧滑石4%-8%,硅酸锆1%-10%,高岭土1%-10%。

在本具体实施例中,所述表釉按百分比算,包含以下组分:不透水熔块78%,钠长石3%,白云石3%,烧滑石6%,硅酸锆5%,高岭土5%。

在本发明中,采用烧滑石替代以往的硅酸锆,提高了釉料的硅和镁的含量,使得釉料更加不透水,同时成釉后白度高。

本发明中用于生产上述高光砖的工艺,包括以下步骤:

A.将砖坯体原料进行球磨过筛,得到泥浆,将表釉的原料分别进行球磨过筛,得到表釉浆;

B.将步骤A所得的泥浆进行喷雾干燥制粉;

C.将步骤B所得的粉料通过高压压制成砖坯体,压砖的压力为17Mpa;

D.对砖坯体施喷第一层表釉;

E.对砖坯体施喷第二层表釉;

F.烧制成型。

在本发明中,压砖的压力为17Mpa,大于以往的砖体压制压力,这样使得砖体的密度更大,相应地降低透水率以及吸水率。

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