[发明专利]一种等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

反应腔室，用于进行等离子体反应；

上电极和下电极，所述上电极设置于所述反应腔室的顶部，所述下电极相对设置于所述反应腔室的底部；

第一温度调节部和第二温度调节部，所述第一温度调节部和所述第二温度调节部均设置于所述反应腔室的顶部，且所述第一温度调节部在所述上电极所在平面的垂直投影位于所述上电极内，所述第二温度调节部在所述上电极所在平面的垂直投影环绕所述上电极；

所述第一温度调节部包括多个第一加热部和多个第一冷却部；所述多个第一加热部在所述上电极所在平面的垂直投影均匀分布在所述上电极内，所述多个第一冷却部在所述上电极所在平面的垂直投影均匀分布在所述上电极内；

所述第二温度调节部包括第二加热部和第二冷却部，所述第二加热部和所述第二冷却部在所述上电极所在平面的垂直投影环绕所述上电极。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述多个第一加热部在所述上电极所在平面的垂直投影，与所述多个第一冷却部在所述上电极所在平面的垂直投影一一对应且均至少部分交叠。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述多个第一加热部呈阵列排布，或者，所述多个第一加热部沿圆周均匀排布。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一冷却部和所述第二冷却部均为冷却管道；

相邻的两个所述第一冷却部之间相互连通，相邻的所述第一冷却部和所述第二冷却部之间相互连通，以使所述多个第一冷却部和所述第二冷却部形成一个连通管道，所述连通管道包括一个冷却液进口和一个冷却液出口；

相邻的两个所述第一加热部相互连接，相邻的所述第一加热部和所述第二加热部连接，以使所述多个第一加热部和所述第二加热部形成一个加热网络；

所述等离子体处理装置还包括加热控制部和冷却供给部；所述加热控制部与所述加热网络连接，用于控制所述加热网络加热；所述冷却供给部连接所述冷却液进口和所述冷却液出口，用于向所述连通管道提供冷却液并驱动冷却液循环。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置还包括温度传感器，所述温度传感器分别与所述加热控制部和所述冷却供给部电连接；

所述温度传感器用于检测所述反应腔室的温度；所述加热控制部用于根据所述反应腔室的温度，控制所述加热网络加热，和/或，所述冷却供给部用于根据所述反应腔室的温度，驱动所述连通管道中的冷却液循环。

6.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一冷却部和所述第二冷却部均为冷却管道；所述第一冷却部和所述第二冷却部均包括一个冷却液进口和一个冷却液出口；

所述等离子体处理装置还包括加热控制部和冷却供给部；所述加热控制部分别与所述多个第一加热部和所述第二加热部连接，用于独立控制所述第一加热部和所述第二加热部加热；所述冷却供给部分别连接所述多个第一冷却部和所述第二冷却部的所述冷却液进口和所述冷却液出口，用于独立向所述第一冷却部和所述第二冷却部提供冷却液并驱动冷却液循环。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置还包括多个温度传感器，所述多个温度传感器均匀设置在所述反应腔室中，所述多个温度传感器分别与所述加热控制部和所述冷却供给部电连接；

所述温度传感器用于检测所述反应腔室不同区域的温度；所述加热控制部用于根据所述反应腔室不同区域的温度，控制对应位置的所述第一加热部或所述第二加热部加热；和/或，所述冷却供给部用于根据所述反应腔室不同区域的温度，驱动对应位置的所述第一冷却部或所述第二冷却部中的冷却液循环。

8.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一加热部和所述第二加热部为电热丝或电热板。