[发明专利]发光物料影像处理方法在审

专利信息
申请号: 202011335792.X 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN112985587A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 吴秉颖;刘永钦 申请(专利权)人: 旺矽科技股份有限公司
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42;G06T3/40
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 陈晓庆
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 发光 物料 影像 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种发光物料影像处理方法,利用一影像撷取装置撷取一发光物料的多个发光单元的影像,所述影像撷取装置的一视野范围小于所述发光物料的发光单元的分布范围;其特征在于所述发光物料影像处理方法的步骤包含有:

点亮所述发光物料的至少部分发光单元;

利用所述影像撷取装置分别撷取所述发光物料的多个区块的影像,得到分别对应各所述区块的多个检测影像,其中,各所述区块包含多个被点亮的所述发光单元,各所述检测影像包含多个光点,各所述光点分别对应其所属检测影像所对应的区块的发光单元,每二相邻的所述区块有一重叠区域,所述重叠区域包含至少一被点亮的所述发光单元;

以所述重叠区域的至少一所述被点亮的所述发光单元所对应的光点作为对位参考点,将所述相邻区块的检测影像相互拼接成一体。

2.如权利要求1所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:将各所述检测影像相互拼接的步骤,是根据各所述光点的位置、亮度及尺寸三者至少其中之一,判断出至少一个分别存在于所述相邻区块的检测影像中对应着所述重叠区域中相同的发光单元的光点,作为所述对位参考点。

3.如权利要求2所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:所述将各所述检测影像相互拼接的步骤,是根据各所述光点的亮度相对关系,判断出多个分别存在于所述相邻区块的检测影像中分别对应着所述重叠区域中相同的发光单元的光点,作为所述对位参考点。

4.如权利要求3所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:各所述光点的亮度相对关系为各所述光点的亮度值的差值关系。

5.如权利要求4所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:所述将各所述检测影像相互拼接的步骤,还包含一调整至少部分检测影像的光点的亮度值的步骤,使得所述相邻区块的检测影像中对应相同的发光单元的对位参考点的亮度值的差值小于一预定数值。

6.如权利要求5所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:调整光点亮度值的方式,是在所述重叠区域内选择一所述发光单元作为一参考发光单元,并取得所述参考发光单元在所述相邻区块的检测影像中所对应的二个光点的亮度值的比值或差值,再根据所述比值或差值调整其对应的至少一所述检测影像中的所有光点的亮度值。

7.如权利要求2所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:所述将各所述检测影像相互拼接的步骤,是根据各所述光点的亮度值,判断出多个分别存在于所述相邻区块的检测影像中分别对应着所述重叠区域中相同的发光单元的光点,作为所述对位参考点。

8.如权利要求1所述的发光物料影像处理方法,其特征在于:所述利用所述影像撷取装置分别撷取所述发光物料的所述多个区块的影像的步骤中,还包含一过滤所述发光物料的发光单元发出的光线的步骤。

9.一种发光物料影像处理方法,利用一影像撷取装置撷取一发光物料的多个发光单元的影像,所述影像撷取装置的一视野范围小于所述发光物料的发光单元的分布范围;其特征在于所述发光物料影像处理方法的步骤包含有:

点亮所述发光物料的至少部分发光单元;

使所述影像撷取装置的视野范围涵盖所述发光物料的一第一区块,以拍摄所述第一区块而得到一第一检测影像,其中,所述第一区块包含多个被点亮的所述发光单元,所述第一检测影像包含分别对应所述第一区块的发光单元的多个第一光点;

使所述影像撷取装置的视野范围涵盖所述发光物料的一第二区块,以拍摄所述第二区块而得到一第二检测影像,其中,所述第二区块包含多个被点亮的所述发光单元,所述第二检测影像包含分别对应所述第二区块的发光单元的多个第二光点,所述第一区块与所述第二区块有一重叠区域,所述重叠区域包含至少一被点亮的所述发光单元;

根据各所述第一、二光点的位置、亮度及尺寸三者至少其中之一,判断出至少一个分别存在于所述第一、第二检测影像中对应着相同的发光单元的光点作为对位参考点,而将所述第一、第二检测影像拼接成一体。

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