[发明专利]清洁装置

权利要求书

1.一种清洁装置，其特征在于，包括：

壳体(1)；

清洁结构(2)，设于所述壳体(1)内部，具有至少一个清洁件(21)，所述清洁件(21)具有靠近、并撞击待清洁物的第一状态，及远离所述待清洁物的第二状态；

驱动结构(4)，与所述清洁件(21)连接，适于驱动所述清洁件(21)靠近或远离所述待清洁物。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁结构(2)包括：

主体(22)，与所述驱动结构(4)连接，适于在所述驱动结构(4)的驱动下转动；

安装结构(23)，连接在所述主体(22)的至少一侧，所述清洁件(21)设于所述安装结构(23)上。

3.根据权利要求2所述清洁装置，其特征在于，所述主体(22)包括：

第一旋转轴(221)，一端与所述驱动结构(4)连接；

至少一个连接杆(222)，一端与所述第一旋转轴(221)连接，另一端与所述安装结构(23)连接。

4.根据权利要求2所述清洁装置，其特征在于，所述安装结构(23)包括两个第二旋转轴(231)，两个所述第二旋转轴(231)分别位于所述主体(22)的两侧；所述清洁件(21)具有两个，每个所述第二旋转轴(231)上分别设置一个所述清洁件(21)。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁件(21)包括滚筒(211)，所述滚筒(211)套设在所述第二旋转轴(231)外部。

6.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述滚筒(211)的轴孔内径大于所述第二旋转轴(231)的外径。

7.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁件(21)还包括设于所述滚筒(211)的外周壁上的多个圆滑凸起(212)。

8.根据权利要求3-7任一项所述的清洁装置，其特征在于，还包括清洁槽(3)，设于所述清洁结构(2)的下方，所述清洁件(21)在处于所述第二状态时至少部分伸置于所述清洁槽(3)中。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁槽(3)为矩形槽，位于所述壳体(1)的底部。

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，还包括设于所述壳体(1)内部的传动结构(10)，与所述第一旋转轴(221)连接，适于在所述第一旋转轴(221)旋转时，带动所述清洁结构(2)沿与所述第一旋转轴(221)的轴向互成夹角的方向往复移动。

11.根据权利要求10所述的清洁装置，其特征在于，所述传动结构(10)包括：

齿轮，所述齿轮与所述第一旋转轴(221)连接；

齿条，设于所述清洁槽(3)上，与所述第一旋转轴(221)的轴向垂直；

所述齿轮适于在所述第一旋转轴(221)的带动下旋转，并与所述齿条配合。

12.根据权利要求11所述的清洁装置，其特征在于，还包括设于所述清洁槽(3)上的导向结构(5)，所述第一旋转轴(221)一端与所述传动结构(10)连接，另一端与所述导向结构(5)配合；所述传动结构(10)和所述导向结构(5)分别设置在所述清洁槽(3)相对设置的两个侧壁上。

13.根据权利要求12所述的清洁装置，其特征在于，还包括轴承，所述第一旋转轴(221)通过所述轴承与所述导向结构(5)配合。

14.根据权利要求13所述的清洁装置，其特征在于，所述导向结构(5)为凸出于所述清洁槽(3)的侧壁设置的条状结构，所述轴承搭设在所述导向结构(5)的上表面。