[发明专利]去除钽粉金属杂质的方法

说明书

本发明提供了一种去除钽粉金属杂质的方法，包括将钽粉装入预定敞口容器并放入真空炉；将真空炉抽真空至预设压力时开始加热升温至预设温度并保温预设时间以使钽粉中的金属杂质融化并挥发，预设温度小于钽粉的熔点且大于金属杂质的熔点；保温预设时间后将真空炉炉温降至室温时，将敞口容器出炉以得到纯净的钽粉。从而能够将钽粉中混入的其他金属杂质彻底清除干净，保证钽粉的品质。解决了现有技术中采用更换更耐磨的设备配件降低磨损的方式只能减少金属杂质的混入而无法完全消除杂质的问题。

技术领域

本发明涉及稀有金属提纯领域，具体而言，涉及一种去除钽粉金属杂质的方法。

背景技术

钽粉在生产过程中，需要涉及到破碎、磨粉和筛分等工序，这类工序的生产设备不可避免的会出现正常磨损，磨损下来的金属颗粒(铁、镍、锰等)会吸附在钽粉表面，降低钽粉的品质，影响产品后续的使用性能。

目前解决该问题的方法主要依靠更换更耐磨的设备配件来降低磨损，从而减少其他金属杂质的混入。然而此方式只能降低杂质混入无法完全消除杂质，并且偶尔出现较大的杂质颗粒时会严重影响钽粉的品质。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种去除钽粉金属杂质的方法，以至少解决现有技术中采用更换更耐磨的设备配件降低磨损的方式只能减少金属杂质的混入而无法完全消除杂质的问题。

为了实现上述目的，本发明提供了一种去除钽粉金属杂质的方法，包括：将钽粉装入预定敞口容器并放入真空炉；将真空炉抽真空至预设压力时开始加热升温至预设温度并保温预设时间以使钽粉中的金属杂质融化并挥发；保温预设时间后将真空炉炉温降至室温时，将敞口容器出炉以得到纯净的钽粉；其中，预设温度小于钽粉的熔点且大于金属杂质的熔点。

进一步地，敞口托盘为倒置的锥台结构，敞口托盘由上至下截面积逐渐减小。

进一步地，敞口托盘为倒置的四棱台结构，敞口托盘的底面尺寸为10cm*30cm，敞口托盘的开口尺寸为14cm*40cm。

进一步地，预设压力为1*10-3Pa至2*10-3Pa之间。

进一步地，预设压力为1*10-3Pa。

进一步地，预设温度为1800℃至2000℃之间。

进一步地，预设温度为1800℃。

进一步地，预设时间为3至5小时。

进一步地，预设时间为5小时。

进一步地，敞口容器出炉得到纯净的钽粉后，还包括：将纯净的钽粉装入真空袋内并充入惰性气体进行保护。

应用本发明技术方案的去除钽粉金属杂质的方法，包括将钽粉装入预定敞口容器并放入真空炉；将真空炉抽真空至预设压力时开始加热升温至预设温度并保温预设时间以使钽粉中的金属杂质融化并挥发，预设温度小于钽粉的熔点且大于金属杂质的熔点；保温预设时间后将真空炉炉温降至室温时，将敞口容器出炉以得到纯净的钽粉。从而能够将钽粉中混入的其他金属杂质彻底清除干净，保证钽粉的品质。解决了现有技术中采用更换更耐磨的设备配件降低磨损的方式只能减少金属杂质的混入而无法完全消除杂质的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是根据本发明实施例可选的一种去除钽粉金属杂质的方法的流程示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

根据本发明实施例的去除钽粉金属杂质的方法，具体包括以下步骤：