[发明专利]大豆间座壳菌提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途

说明书

本发明提供一种大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物用于制备抗紫外线伤害及减少色素沉着的组合物的用途。本发明也提供一种分离自大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物的新颖化合物，以及包含该化合物的组合物。

技术领域

本发明是关于大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)提取物在制备用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的组合物的用途。

背景技术

太阳辐射中的紫外线（ultraviolet, UV）对生物体皮肤影响甚大，过量的紫外光照射除了会导致皮肤变黑，且使皮肤表层吸收紫外线产生自由基；而体内若累积过多的自由基则会产生氧化应激，使防御系统无法平衡调节，导致细胞损伤。虽然有些天然物质经研究证实具有紫外线保护及抑制黑色素的效果，但其几乎为植物来源的提取物或组合物；关于微生物应用于保养品开发者目前多为外生菌（如灵芝、木耳）的应用，关于内生菌的研究甚少。

大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)为间座壳科的菌种，其为植物病原菌，常感染黄豆；根据过去文献回顾，发现其化学成分以及生物活性尚未被深入探讨过。

虽然先前文献已验证大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)具有抗炎活性，但尚未证实大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)提取物可以用来预防紫外线所造成的皮肤伤害，也未证实大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)提取物可以用来抑制黑色素生成或减少色素沉着。

发明人针对现有技术的不足，经过悉心试验与研究，并以锲而不舍的精神，最终构思出本案“大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途”，能够克服现有技术的不足，以下为本案的简要说明。

发明内容

除非另外特别加以定义，在此叙述中所用的名词将具有本领域技术人员已知的普通且常见的含意。

本发明自大武新木姜子( Neolitseadaibuensis)的叶子中分离出内生菌：大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)，并将其开发成具抗紫外线伤害及减少色素沉着作用的组合物，该组合物可预防皮肤遭受紫外线伤害，并具有美白皮肤的功效，可单独使用或作为医药品、化妆品、或保养品的活性添加物。本发明的大豆间座壳菌，其分类命名为大豆间座壳菌( Diaporthecaulivora)，于2020年10月23日保藏于德国生物保藏中心（DSMZ），其保藏编号为：DSM33674。