[发明专利]一种有效去除双特异性抗体同源二聚体的层析纯化工艺

权利要求书

1.一种去除双特异性抗体同源二聚体的层析纯化工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，处理层析填料，上样；所述层析填料为Diamond SP Mustang；

步骤2，使用平衡缓冲液淋洗；

步骤3，使用含有添加剂的洗脱缓冲液洗脱产品，并收集产品。

2.根据权利要求1所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述双特异性抗体为抗GPC3和抗CD3的双特异性抗体。

3.根据权利要求1或2所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述洗脱缓冲液包含洗脱缓冲液A和洗脱缓冲液B；所述洗脱缓冲液A为NaAc-HAc，所述洗脱缓冲液B为NaAc-HAc和盐的组合物。

4.根据权利要求3所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述盐为NaCl。

5.根据权利要求4所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述洗脱缓冲液通过所述洗脱产品时产生线性盐梯度。

6.根据权利要求1-5所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述洗脱缓冲液还含有添加剂。

7.根据权利要求6所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述添加剂为醇、糖或氨基酸。

8.根据权利要求7所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述醇为乙醇、甘露醇或山梨糖醇。

9.根据权利要求7所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述糖为蔗糖、海藻糖或右旋糖酐40。

10.根据权利要求7所述的层析纯化工艺，其特征在于，所述氨基酸为精氨酸、甘氨酸、组氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸或酪氨酸。