[发明专利]写入均衡有效

专利信息
申请号: 202011353492.4 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN113223576B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: D·B·彭妮;G·L·霍韦 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: G11C11/4063 分类号: G11C11/4063;G11C11/4076;G11C11/4096
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 写入 均衡
【权利要求书】:

1.一种存储器装置,其包括:

命令接口,其经配置以接收写入命令;及

内部写入调整IWA电路系统,其经配置以:

从所述命令接口接收所述写入命令;

基于所述写入命令产生内部写入信号IWS,其中当检测到发生边界条件时经由更精细分辨率来调整所述IWS的产生从而校正所述IWS的所述产生的时序,否则所述边界条件将致使数据选通DQS信号具有在所述存储器装置的公差的规格之外的偏离;及

训练所述数据选通DQS信号以产生具有与所述存储器装置的时钟CLK的设置相位对准量的所述DQS信号,以使用所述IWS捕获数据信号DQ。

2.根据权利要求1所述的存储器装置,其中所述设置相位对准量在DQS减去所述CLK的时钟脉冲的一半与DQS加上所述CLK的所述时钟脉冲的一半之间。

3.根据权利要求1所述的存储器装置,其中所述内部写入调整电路系统经配置以通过在所述DQS信号上实施内部写入均衡WL来训练所述DQS信号。

4.根据权利要求3所述的存储器装置,其中所述内部写入均衡包含确定值并将所述值设置在所述存储器装置的模式寄存器中,其中所述值对应于所述IWA电路系统以其调整所述IWS的传输的所述CLK的时钟循环的数目。

5.根据权利要求4所述的存储器装置,其中所述IWA经配置以通过将所述DQS信号减小预定值及确定写入命令是否被捕获来检测第一边界条件是否存在。

6.根据权利要求5所述的存储器装置,其中所述IWA经配置以将所述模式寄存器中的所述值调整为第二值以及响应于检测所述第一边界条件的存在而将所述DQS信号增加所述预定值。

7.根据权利要求6所述的存储器装置,其中所述IWA经配置以通过将所述DQS信号减小第二预定值及确定所述写入命令是否被捕获来检测第二边界条件是否存在。

8.根据权利要求7所述的存储器装置,其中所述IWA经配置以通过将所述DQS信号减小第二预定值及确定所述写入命令是否被捕获来将所述模式寄存器中的所述值调整为第三值。

9.根据权利要求7所述的存储器装置,其中所述IWA经配置以在确定所述第一边界条件不存在之后检测所述第二边界条件是否存在。

10.一种用于存储器装置的方法,其包括:

在所述存储器装置中实施内部写入均衡,其包括:

将值设置在所述存储器装置的模式寄存器中,其中所述值对应于可以其调整内部写入信号IWS的传输的时钟CLK的时钟循环的数目;

确定所述模式寄存器中的所述值是否致使内部数据选通DQS信号与所述CLK之间的相位对准在预定相位失配量之外;及

响应于确定所述相位对准在所述预定相位失配量之外而调整所述模式寄存器中的所述值以将所述DQS信号与所述CLK之间的所述相位对准更改为在所述预定相位失配量内。

11.根据权利要求10所述的方法,其中确定所述模式寄存器中的所述值是否致使所述DQS信号与所述CLK之间的相位对准在所述预定相位失配量之外包括将所述DQS信号调整设置量。

12.根据权利要求11所述的方法,其包括:

传输写入命令;及

在将所述DQS信号调整设置量之后,确定所述写入命令是否被捕获。

13.根据权利要求12所述的方法,其包括:

当确定尚未捕获所述写入命令时,将所述DQS信号调整在值上与所述设置量相反的第二设置量;及

当确定尚未捕获所述写入命令时,将所述模式寄存器中的所述值调整预定调整值。

14.根据权利要求12所述的方法,其包括当确定已捕获所述写入命令时,将所述DQS信号调整第二设置量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011353492.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top