[发明专利]一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法及系统在审
申请号: | 202011354336.X | 申请日: | 2020-11-26 |
公开(公告)号: | CN112486118A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 刘广志;王敏;张震;张馨月;郎军 | 申请(专利权)人: | 中国兵器装备集团自动化研究所 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 胡晓丽 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 层次 分析 制造 工艺 优选 方法 系统 | ||
1.一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.工艺参数采集:对整套增材制造装备的工艺参数数据实时在线采集监控;
S2.工艺参数传输与存储:工艺参数采集完成后,经传输和开发处理,存入数据库;
S3.建立递阶层次的结构模型:在不同的增材工艺方案中,找到对应权重的影响因素;各个因素之间存在关联,将这些因素划分成有序层次,从而构建出层次模型;
S4.构造判断矩阵:通过不同影响因素,采用相对尺度,两两相互比较,确定分级标度值,构造判断矩阵;
S5.层次单排序:通过判断矩阵最大特征值对应的归一化特征向量,进行层次单排序,为本层因素对上层目标相对重要性的排序;
S6.单排序一致性检验:计算一致性指标CI以及相应的平均随机一致性指标RI,最后根据一致性比例CR,对一致性做出判断;
S7.层次总排序:总排序权重从高层到低层将权重进行合成,最终得到工艺参数方案排序;
S8.总排序一致性检验:通过计算总排序一致性指标CI(j)及相应的平均一致性指标RI(j),通过计算CR,对一致性做出判断;其中,j=1...n。
2.根据权利要求1所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,步骤S1中,通过Beckhoff-IPC控制系统,利用EtherCAT总线采集增材制造工艺参数各数字量和模拟量,同时利用WPF完成二次开发,将整套增材制造装备的工艺参数进行实时在线监控。
3.根据权利要求1所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,步骤S2中,工艺参数采集完成后,通过C#协议转换程序,利用自定义网络协议,将系统内部变量发送出来,在边缘PC内,通过C#二次开发,利用Socket通信传输工艺参数变量数据,并存入Influxdb数据库中。
4.根据权利要求1所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,步骤S3中,建立三层阶梯模型,包括目标层、准侧层和方案层;所述目标层只有一个元素,是分析问题的目标;准则层包含的元素是为了实现目标所涉及的中间环节,根据用户对产品需求的侧重点不同进行设定;方案层所包含元素是为了实现目标所采取的具体可选方案、措施。
5.根据权利要求4所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,所述准则层的元素包括硬度、强度、粗糙度、成形尺寸。
6.根据权利要求1所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,步骤S5和S7中,判断矩阵对应于最大特征值:λmax的归一化特征向量为本层因素对上层目标相对重要性的排序。
7.根据权利要求1所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,步骤S6和S8中,一致性指标CI的计算公式如式(1)所示,
其中,λmax,n对应判断矩阵的最大特征值和阶数;
不同阶数n对应的RI值如表1所示:
表1不同阶数n对应的RI值
CR的计算公式如式(2)所示:
其中,CI(j)bj表示总排序一致性指标;
RI(j)bj表示对应总排序的平均随机一致性指标。
8.根据权利要求7所述的一种基于层次分析法的增材制造工艺优选方法,其特征在于,
当CR0.10时,认定判断矩阵的一致性可接受;
当CR≥0.10时,认定判断矩阵的一致性不可接受,需对判断矩阵作适当修正。
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