[发明专利]用于泵送管线中的沉积物清洁的方法和设备在审

专利信息
申请号: 202011355817.2 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN112509902A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: G.希尔;S.贝内迪特;K.温策尔 申请(专利权)人: MKS仪器有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张婧晨;王丽辉
地址: 美国麻*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 管线 中的 沉积物 清洁 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种阀组件,所述阀组件包括:

包括电接地表面的真空阀;

邻近于所述真空阀的电接地表面的电极;

阻挡介质,所述阻挡介质的至少一部分被定位在所述电极与所述电接地表面之间;以及

由所述电接地表面、所述电极和所述阻挡介质形成的介质阻挡放电结构,其中,所述介质阻挡放电结构适于在所述电接地表面上产生等离子体以处理所述真空阀的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的阀组件,所述阀组件还包括埋入电极组件,所述埋入电极组件包括所述电极、所述阻挡介质和隔离器介质。

3.根据权利要求2所述的阀组件,其中,所述真空阀的本体和所述埋入电极组件是大致筒形的,所述本体和所述埋入电极组件沿纵向轴线同心地对齐。

4.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述电极被形成在所述阻挡介质的内表面上。

5.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述电接地表面形成用于产生所述等离子体的接地电极。

6.根据权利要求3所述的阀组件,所述阀组件还包括联接到所述真空阀的本体的延伸部分,以用于将所述埋入电极组件紧固到所述真空阀。

7.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述真空阀包括节流阀、隔离阀或摆阀中的至少一者。

8.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述电极或所述电接地表面包括所述真空阀的控制元件的至少一部分。

9.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述真空阀、所述电极和所述阻挡介质包括整体式结构。

10.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述真空阀或所述电极中的每者是能够更换能够消耗的。

11.根据权利要求1所述的阀组件,其中,所述阻挡介质包括石英、氧化铝、玻璃或聚酰胺中的至少一者。

12.根据权利要求1所述的阀组件,所述阀组件还包括电源,所述电源被连接在所述电极与所述电接地表面之间以用于产生所述等离子体。

13.一种方法,所述方法包括:

提供包括本体和控制元件的真空阀;

将所述本体或所述控制元件中的至少一者的表面电接地以形成电接地表面;

将电极定位成邻近于所述真空阀的电接地表面;

将阻挡介质的至少一部分插入到所述电极与所述真空阀的电接地表面之间;以及

使用所述电极、所述阻挡介质和所述电接地表面来形成介质阻挡放电结构,其中,所述介质阻挡放电结构适于产生联接到所述真空阀的局部等离子体,以用于处理所述真空阀的至少一部分。

14.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括:将所述电极定位在所述阻挡介质的内表面上。

15.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括:将所述电极和所述阻挡介质紧固到所述真空阀的本体。

16.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括:在所述电极与所述电接地表面之间提供高压交流电(AC)以产生所述局部等离子体。

17.根据权利要求13所述的方法,其中,在大约2 Torr下所述局部等离子体的功率为大约15瓦。

18.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括:将所述真空阀和所述介质阻挡放电结构定位在晶圆处理腔下游。

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