[发明专利]一种利用CRT锥玻璃制备微晶玻璃的方法在审
| 申请号： | 202011356357.5 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112408802A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 徐宝强;史腾腾;刘浪;杨斌;王凤康;朱容伯;熊恒;刘大春;王飞;杨佳;蒋文龙;孔令鑫;田阳;曲涛;李一夫;孔祥峰 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C03C10/06 | 分类号： | C03C10/06;C03C10/10;C03C10/04;C03C6/02;C03B5/16;C03B19/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王术娜 |
| 地址： | 650093 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 crt 玻璃 制备 方法 | ||
1.一种利用CRT锥玻璃制备微晶玻璃的方法，包括以下步骤：
将CRT锥玻璃与矿物的混合料进行真空熔炼，脱除氧化铅，得到残余物；所述矿物为赤泥或高岭土；
将所述残余物进行模压成型，得到坯料；
将所述坯料进行常压烧结，得到微晶玻璃。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述矿物为赤泥时，所述CRT锥玻璃与矿物的质量比为(8:2)～(3:7)；
所述矿物为高岭土时，所述CRT锥玻璃与矿物的质量比为(5～0.5):1。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模压成型的压力在500MPa以上。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述真空熔炼的条件包括：熔炼温度为1000～1500℃，炉内压力为1～100Pa，保温时间为0.5～4h。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述矿物为赤泥时，所述常压烧结的条件包括：将所述坯料升温至600～700℃保温1～3h，保温结束后继续升温至850～950℃保温0.5～4h；
所述矿物为高岭土时，所述常压烧结的条件包括：将所述坯料升温至800～1100℃保温1～4h。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述矿物为赤泥或高岭土时，所述常压烧结过程中的升温速率为5～20℃/min。
7.根据权利要求1、5或6所述的方法，其特征在于，所述常压烧结在空气氛围下进行。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述矿物为赤泥时，得到的微晶玻璃为CAS系微晶玻璃；
所述矿物为高岭土时，得到的微晶玻璃为莫来石系微晶玻璃。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进行模压成型前，还包括将所述残余物进行破碎，研磨成200～400目粉末。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述CRT锥玻璃中二氧化硅的含量为40～60wt.％，氧化铅的含量为15～30wt.％。
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