[发明专利]一种高反物体表面缺陷检测方法及系统

说明书

本发明涉及表面缺陷检测技术领域，尤其涉及一种高反物体表面缺陷检测方法，包括：对待检测物表面进行相位偏折初步检测，并标记检测出的可疑缺陷位置；在可疑缺陷位置处生成覆盖可疑缺陷所在区域的最小规则二维几何图形；确定最小规则二维几何图形的长度方向；沿最小规则二维几何图形的长度方向对可疑缺陷进行暗场检测；根据暗场检测结果确定损毁型缺陷。本发明通过使用相位偏折方法进行初步检测，并在检测出的可疑缺陷上生成最小规则二维几何图形，通过继续朝向最小规则二维几何图形长度方向进行暗场检测的方法，减少了对损毁型缺陷的误检测，提高了检测的精度和效率。本发明还请求保护一种缺陷检测系统。

技术领域

本发明涉及表面缺陷检测技术领域，尤其涉及一种高反物体表面缺陷检测方法及系统。

背景技术

高反物体是指高反射物体，例如可以是汽车表面、手机壳体表面等，由于其不透明而且反射率较高，传统的机器视觉的检测方法很难有效、准确的检测出缺陷。

现有技术中，对于物体表面缺陷的检测多采用相位偏折方法或者暗场检测方法；其中相位偏折检测方法通过采集被测物表面反射的条纹光图像并对图像进行相位提取、解相位、拆相位得出反射表面的梯度信息，根据梯度变化来确定缺陷，然而在检测过程中容易受到物体表面脏污灰尘等非损毁型缺陷干扰，导致误检率较高；

暗场检测方法的原理是对缺陷的散射光进行成像，光源以某入射角度投射在被测物表面，入射光在无缺陷的位置处发生反射，在缺陷处发生散射，当探测器只接受到散射光而接收不到反射光时，可以得到对比度较高的暗场图像，从而根据暗场图像得到缺陷的具体形状和位置；由于单一姿位的暗场只对单一方向的缺陷效果明显，容易出现漏检，而如果采用位姿遍历的方式去实现局部暗场成像，则需要耗费大量时间，效率低下。

鉴于上述问题的存在，本发明人基于从事此类产品工程应用多年丰富的实务经验及专业知识，积极加以研究创新，以期创设一种高反物体表面缺陷检测方法及系统，使其更具有实用性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种高反物体表面缺陷检测方法及系统，提高高反物体表面损毁型缺陷的检测精度和效率。

为了达到上述目的，本发明一方面提供了一种高反物体表面缺陷检测方法，包括以下步骤：

对待检测物表面进行相位偏折初步检测，并标记检测出的可疑缺陷位置；

在可疑缺陷位置处生成覆盖可疑缺陷所在区域的最小规则二维几何图形；

确定最小规则二维几何图形的长度方向；

沿最小规则二维几何图形的长度方向对可疑缺陷进行暗场检测；

根据暗场检测结果确定损毁型缺陷。

进一步地，所述规则二维几何图形为椭圆形、腰圆形或者矩形。

进一步地，所述规则二维几何图形为矩形，所述矩形的确定方法包括以下步骤：

获取覆盖缺陷的最小区域；

确定所述最小区域的中心位置；

确定区域相对水平轴的旋转角度；

根据区域的中心位置和区域相对水平轴的旋转角度生成最小矩形。

进一步地，当所述矩形为正方形时，进行暗场检测的方向为与正方形边长方向中的任一方向。

进一步地，所述相位偏折初步检测包括以下步骤：

依次朝向待检测物表面播放横向格雷码图像、纵向格雷码图像、横向正弦条纹图像和纵向正弦条纹图像，并在每幅图像投影完成后同步拍照，以获取用于相位偏折算法的图像；

计算获取到的用于相位偏折算法的图像的光强；