[发明专利]KrF厚膜光刻胶树脂、其制备方法和涂覆基材

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括以下组分：光致产酸剂、树脂和溶剂；

所述的光致产酸剂为PAG1和/或PAG2，其结构如下所示：

所述的树脂通过以下制备方法制得，所述的树脂的制备方法包括以下步骤：

在过氧苯甲酰存在下，将如式A所示的单体、如式B所示的单体、如式C所示的单体、如式D所示的单体和如式E所示的单体在乙酸乙酯中进行聚合反应，得到所述的树脂；其中，所述的如式D所示的单体以重量份数计的份数为1-10份，所述的如式E所示的单体以重量份数计的份数为1-10份；

所述的聚合反应的温度为75-80℃；

式A中，R¹为R^1a取代的5-10元的杂环烷基或-CH₂(C＝O)OR^1b；

R^1b为R^1b-1取代的5-10元的杂环烷基；

R^1a和R^1b-1独立地为氧代、氰基或C_1-4的烷基；

所述的R^1a取代的5-10元的杂环烷基和所述的R^1b-1取代的5-10元的杂环烷基中的杂原子为O，个数为1个或2个；

式B中，R²为

n₁为1-11中的任意整数；

R^2a和R^2b独立地为C_1-4的烷基、羟基取代的C_1-4的烷基、苯基、R^2a-1取代的苯基、5-6元的环烷基或金刚烷基；

R^2a-1为C_1-4的烷基或C_1-4的烷氧基；

或者，R^2a和R^2b与其相连的氮原子一起形成5-6元的杂环烷基或R^2b-1取代的5-6元的杂环烷基，所述的5-6元的杂环烷基和R^2b-1取代的5-6元的杂环烷基中的杂原子独立地选自O和N，个数为1个或2个；

R^2b-1为C_1-4的烷基或氨基保护基；

式C中，为单键或者双键；

R^3a、R^3b和R^3c独立地为H、羟基、氰基、-(C＝O)OR^3a-1、-O(C＝O)R^3a-2、C_1-4的烷基或羟基取代的C_1-4的烷基；且R^3a、R^3b和R^3c不同时为H；

R^3a-1为H、C_1-5的烷基、

R^3a-2为C_1-4的烷基或苯基；

或者，R^3a、R^3b和R^3c中的任意两个基团与其相连的碳原子一起形成苯基、5-7元的环烷基、5-7元的环烯基、

式D中，n₂为0或1；

R^4a和R^4b独立地为H或C_1-4的烷基；且R^4a和R^4b不同时为H；

式E中，R⁵为H、氰基、C_1-4的烷基、R^5a取代的C_1-4的烷基或-(C＝O)OR^5b；

R^5a为羟基或乙酰基；

R^5b为C_1-4的烷基；

所述的树脂的重均分子量为5000-18000；

所述的树脂的聚合物分散性指数为1.4-2.1。