[发明专利]厚膜型DUV光刻胶组合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其包括以下组分：树脂、光致产酸剂和溶剂；

所述的树脂通过以下制备方法制得，所述的树脂的制备方法包括以下步骤：

在过氧苯甲酰存在下，将如式A所示的单体、如式B所示的单体、如式C所示的单体、如式D所示的单体和如式E所示的单体在乙酸乙酯中进行聚合反应，得到所述的树脂；其中，所述的如式D所示的单体以重量份数计的份数为1-10份，所述的如式E所示的单体以重量份数计的份数为1-10份；

所述的聚合反应的温度为75-80℃；

式A中，R¹为R^1a取代的5-10元的杂环烷基或-CH₂(C＝O)OR^1b；

R^1b为R^1b-1取代的5-10元的杂环烷基；

R^1a和R^1b-1独立地为氧代、氰基或C_1-4的烷基；

所述的R^1a取代的5-10元的杂环烷基和所述的R^1b-1取代的5-10元的杂环烷基中的杂原子为O，个数为1个或2个；

式B中，R²为

M为亚乙基或亚环己基；n为2、3、4、5、6或7；Y为

R^2a和R^2b独立地为C_1-4的烷基、R^2a-1取代的C_1-4的烷基、苯基、萘基、R^2a-2取代的苯基或5-6元的环烷基；

R^2a-1为羟基或金刚烷基；

R^2a-2为C_1-4的烷基或C_1-4的烷氧基；

或者，R^2a和R^2b与其相连的N原子一起形成5-6元的杂环烷基或R^2b-1取代的5-6元的杂环烷基，所述的5-6元的杂环烷基和R^2b-1取代的5-6元的杂环烷基中的杂原子独立地选自O和N，个数为1个或2个；

R^2b-1为C_1-4的烷基或氨基保护基；

且Y为不为

式C中，为单键或者双键；

R^3a、R^3b和R^3c独立地为H、羟基、氰基、-(C＝O)OR^3a-1、-O(C＝O)R^3a-2、C_1-4的烷基或羟基取代的C_1-4的烷基；且R^3a、R^3b和R^3c不同时为H；

R^3a-1为H、C_1-5的烷基、

R^3a-2为C_1-4的烷基或苯基；

或者，R^3a、R^3b和R^3c中的任意两个基团与其相连的碳原子一起形成苯基、5-7元的环烷基、5-7元的环烯基、

式D中，Q为N或O；

R⁴为

式E中，R⁵为C_1-6的烷基、R^5-1取代的C_1-6的烷基、5-6元的环烷基、R^5-2取代的5-6元的环烷基、R^5-3取代的苯基或

R^5-1、R^5-2和R^5-3独立地为羟基或

所述的光致产酸剂为PAG1和/或PAG2，其结构如下所示：

所述的树脂的重均分子量为3000-20000；

所述的树脂的聚合物分散性指数为1.2-2.5。