[发明专利]一种KrF厚膜光刻胶添加剂及含其的光刻胶组合物

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包括：等离子体光吸收剂、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂；其中，所述等离子体光吸收剂为式(I)所示的酰基膦氧化合物，

其中，m为1或2；

X为氧或硫；

R₁和R₃分别独立地为C_1-4烷基、苯基、-C(O)-苯基、被C_1-4烷基取代的苯基、或被C_1-4烷基取代的-C(O)-苯基；

R₂为C_1-4烷基、苯基、或被C_1-4烷基取代的苯基；

且R₁、R₂和R₃不同时为C_1-4烷基。

2.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，m、R₁、R₂和R₃如(a)-(e)中的一种所定义：

(a)m为1，R₁和R₃为苯基，R₂为被C_1-4烷基取代的苯基；

(b)m为1，R₁和R₃其中一个为苯基，另一个为被C_1-4烷基取代的-C(O)-苯基，R₂为C_1-4烷基；

(c)m为2，R₁为苯基，R₂为被C_1-4烷基取代的苯基，R₃不存在；

(d)m为2，R₁为被C_1-4烷基取代的-C(O)-苯基，R₂为被C_1-4烷基取代的苯基，R₃不存在；或

(e)m为2，R₁为苯基；R₂为C_1-4烷基，R₃不存在。

3.如权利要求1或2所述的光刻胶组合物，其特征在于，

所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，X为氧；

和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R₁、R₂和R₃中所述的C_1-4烷基为叔丁基；

和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R₁、R₂和R₃中所述的被C_1-4烷基取代的苯基为例如，

和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R₁和R₃中所述的被C_1-4烷基取代的-C(O)-苯基为