[发明专利]利用由聚合物离子液体制成的膜的Mg阳极保护在审

专利信息
申请号: 202011362469.1 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN112928278A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 兰登-维塔诺娃·安娜;多明科·罗伯特;维辛汀·艾伦;萨拉巴纳·布拉兹 申请(专利权)人: 本田技研工业株式会社
主分类号: H01M4/66 分类号: H01M4/66;H01M4/13;H01M4/137;H01M10/0525
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;吴启超
地址: 日本东*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 聚合物 离子 液体 制成 mg 阳极 保护
【权利要求书】:

1.一种阳极,其包括主体,所述主体包含镁金属或镁金属合金或由其组成;以及保护层,所述保护层设置在所述主体的至少一个表面上,其中所述保护层包括聚合离子液体或由其组成。

2.如权利要求1所述的阳极,其中所述阳极主体是所具有的厚度不超过1000μm,优选地不超过500μm的镁箔。

3.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中所述保护层具有在5nm至5μm,优选地10nm至1μm,更优选地100nm至500nm范围内的厚度。

4.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中所述保护层包括聚合物离子液体、离子液体和镁盐的混合物或是所述混合物。

5.如权利要求4所述的阳极,其中所述镁盐是Mg(TFSI)2、Mg(FSI)2、MgCl2、Mg(BH4)2、Mg(TDI)2、Mg(ClO4)2、MgBr2、MgI2、Mg(B(ORx)4)2、Mg(PF6)2、Mg(HIFP)2或它们的任何组合中的任一者。

6.如权利要求4所述的阳极,其中包含在所述离子液体和/或所述聚合物离子液体中的阴离子选自N[SO2CF3]2-、TFSI-、PF6-、Cl-、I-、BF4-、N[SO2F]2-、FSI-、ClO4-、Br-、BH4-、AlCl4-、SO2CF3-、B(ORX)4-或它们的任何组合。

7.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中包含在所述离子液体和/或所述聚合物离子液体中的阳离子选自疏水性和亲水性取代的咪唑鎓、取代的季铵盐、取代的吡咯烷鎓或它们的任何组合。

8.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中所述保护层还包括至少一种陶瓷纳米填料。

9.如权利要求8所述的阳极,其中所述至少一种陶瓷纳米填料选自MgO、ZnO、Al2O3、ZrO2、TiO2、SiO2、SiC、Si3N4、BN或它们的任何组合,并且优选地其中此类填料以0.1重量%至10重量%,更优选地0.5重量%至5重量%的量包含在所述保护层中。

10.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中所述聚合物离子液体包含线性或交联苯乙烯聚合物主链和/或乙烯基聚合物主链。

11.如权利要求1或2中任一项所述的阳极,其中所述离子液体和所述镁盐以1-10:1的摩尔%比包含在所述保护层中,并且/或者其中聚合物离子液体对于离子液体和镁盐的重量比为50-60:50-40。

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