[发明专利]MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法

权利要求书

1.MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤a、调整多孔转盘（3）位置，使距离转轴最近的第一透光孔和距离转轴最远的第一透光孔分别位于矩形透光窗口的两侧；

步骤b、将保护膜（6）粘贴或镀膜在基板（7）上，并将基板（7）放置在上表面与凸透镜（5）的焦平面重合的位置；

步骤c、控制副光源（8）发出平行光；

步骤d、驱动多孔转盘（3）转动，每次在第一透光孔转动到矩形透光窗口位置时，副光源（8）发出的平行光，经过棱镜（9）反射到多孔转盘（3）的反射面，再经过反射面的反射，透过棱镜（9），入射到光电开关（10）上，光电开关（10）打开，控制主光源（1）发光；

步骤e、每次在第一透光孔转动到矩形透光窗口位置时，主光源（1）发出的光线依次穿过窗口板（2）上的矩形透光窗口、多孔转盘（3）上的第一透光孔和固定板（4）上的第二透光孔，最终由凸透镜（5）汇聚到基板（7）上表面完成光刻定位；

步骤f、在多孔转盘（3）转动一周后，完成基板（7）上一排插孔的光刻定位；

所述MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法在MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置上实现，所述MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置包括主光源（1）、窗口板（2）、多孔转盘（3）、固定板（4）、凸透镜（5）、保护膜（6）、基板（7）、副光源（8）、棱镜（9）和光电开关（10）；

主光路上沿光线传播方向依次设置主光源（1）、窗口板（2）、多孔转盘（3）、固定板（4）、凸透镜（5）、保护膜（6）和基板（7）；

所述窗口板（2）为沿所述多孔转盘（3）半径方向开有矩形透光窗口的不透光板；

所述多孔转盘（3）位于窗口板（2）的下方，能够在其所在平面内绕转轴旋转，多孔转盘（3）表面开有多个第一透光孔，所述多个第一透光孔的连线构成一条螺旋线，相邻两个所述第一透光孔到转轴方向的距离差为hd/f；其中，h为多孔转盘（3）到凸透镜（5）的距离，d为所述基板（7）上相邻两个插孔的距离，f为凸透镜（5）的焦距；多孔转盘（3）的侧面为吸光面和反射面交替的结构，所述反射面、第一透光孔和转轴三点一线；

所述固定板（4）为开有第二透光孔的不透光板；

所述凸透镜（5）位于固定板（4）下方，凸透镜（5）的光轴穿过固定板（4）中第二透光孔的圆心；

所述保护膜（6）粘贴或镀膜在基板（7）上；

所述基板（7）上表面到凸透镜（5）的距离为凸透镜（5）的焦距f；

副光路上沿光线传播方向依次设置副光源（8）、棱镜（9）和光电开关（10）；

所述副光源（8）发出平行光；

所述棱镜（9）位于副光源（8）的出射光路上，能够将平行光反射到多孔转盘（3）的侧面，能够将从多孔转盘（3）反射面反射的光线透过；

所述光电开关（10）位于多孔转盘（3）反射面的反射光路上，光电开关（10）与主光源（1）电连接，在光电开关（10）接收到来自多孔转盘（3）反射面的反射光后，驱动主光源（1）发光。