[发明专利]半导体生产过程中的参数监控方法、系统及计算机可读存储介质有效
申请号: | 202011367625.3 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112130518B | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 孙姗姗;徐东东 | 申请(专利权)人: | 晶芯成(北京)科技有限公司 |
主分类号: | G05B19/042 | 分类号: | G05B19/042;H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京经济技术开*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 生产过程 中的 参数 监控 方法 系统 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种半导体生产过程中的参数监控方法,其特征在于,包括:
步骤S1,确定需要进行趋势性识别和/或跳点识别的参数,并获取一目标产品或目标机台在预设时段内产生的所述参数所对应的第一参数数据;
步骤S2,将获取的所述第一参数数据按照时间顺序排序;
步骤S3,调用数据识别算法对排序后的所述第一参数数据进行变化识别,以得到所述参数的变化信息,所述变化信息包括趋势类型和/或跳点信息,所述跳点信息包括以下中的至少一项:跳点类型、跳点位置、跳点个数及跳点发生时间;
步骤S4,搜索与所述目标产品或目标机台同类型的其他产品或其他机台的所述参数对应的第二参数数据,并执行步骤S2~S3,且当所述其他产品或其他机台的所述参数与所述目标产品或目标机台的所述参数具有相同的变化信息时,进行所述参数的预警提示。
2.根据权利要求1所述的半导体生产过程中的参数监控方法,其特征在于,所述变化识别为所述趋势性识别,所述步骤S3具体包括:
调用趋势性匹配M-K算法对排序后的所述第一参数数据进行趋势性识别,以得到所述参数的趋势类型;
其中,所述趋势类型包括上升趋势、下降趋势或平稳趋势。
3.根据权利要求1所述的半导体生产过程中的参数监控方法,其特征在于,所述变化识别为跳点识别,所述步骤S3具体包括:
调用跳点检测算法对排序后的所述第一参数数据进行跳点识别,得到所述参数的跳点信息;
其中,若所述跳点检测算法为突变点检测pettitt算法,则所述跳点信息中的跳点类型指示所述跳点为突变点shift,所述跳点信息包括以下中的至少一项:突变点位置、突变点个数及突变点发生时间;
若所述跳点检测算法为标准正态检测SNHT算法,则所述跳点信息中的跳点类型指示所述跳点为跳跃点jump,所述跳点信息包括以下中的至少一项:跳跃点位置、跳跃点个数及跳跃点发生时间。
4.根据权利要求1所述的半导体生产过程中的参数监控方法,其特征在于,所述步骤S4之后,还包括:
在事件管理系统TMS中,根据所述参数的变化信息在所述预设时段内匹配是否存在有对应的机台操作事件;
若存在有对应的所述机台操作事件,则生成反馈结果,其中所述反馈结果用于提示所述机台操作事件可能为导致所述参数的变化信息产生的原因。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的半导体生产过程中的参数监控方法,其特征在于,所述参数的变化信息包括趋势类型和跳点信息,所述步骤S3中,在得到所述参数的变化信息之后,还包括:
画出所述参数的趋势类型的曲线,并在所述趋势类型的曲线上标记出所述跳点信息,以使得所述参数的变化信息可视化。
6.一种半导体生产过程中的参数监控系统,其特征在于,包括处理器以及和所述处理器相连的存储器,其中所述存储器包括计算机可读指令,所述处理器用于执行所述存储器中的计算机可读指令,从而使得所述参数监控系统用于执行如下步骤:
步骤S1,确定需要进行趋势性识别和/或跳点识别的参数,并获取一目标产品或目标机台在预设时段内产生的所述参数所对应的第一参数数据;
步骤S2,将获取的所述第一参数数据按照时间顺序排序;
步骤S3,调用数据识别算法对排序后的所述第一参数数据进行变化识别,以得到所述参数的变化信息,所述变化信息包括趋势类型和/或跳点信息,所述跳点信息包括以下中的至少一项:跳点类型、跳点位置、跳点个数及跳点发生时间;
步骤S4,搜索与所述目标产品或目标机台同类型的其他产品或其他机台的所述参数对应的第二参数数据,并执行步骤S2~S3,且当所述其他产品或其他机台的所述参数与所述目标产品或目标机台的所述参数具有相同的变化信息时,进行所述参数的预警提示。
7.根据权利要求6所述的参数监控系统,其特征在于,所述变化识别为所述趋势性识别,所述参数监控系统在执行步骤S3时,具体用于执行如下步骤:
调用趋势性匹配M-K算法对排序后的所述第一参数数据进行趋势性识别,以得到所述参数的趋势类型;
其中,所述趋势类型包括上升趋势、下降趋势或平稳趋势。
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