[发明专利]一种黄瓜单倍体加倍的方法有效

专利信息
申请号: 202011369779.6 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN112493122B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 刘立功;白惠平;张峰;于拴仓;王晶;赵泓;李军;刘士华 申请(专利权)人: 北京市农林科学院
主分类号: A01H1/08 分类号: A01H1/08
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 吕纪涛
地址: 100097 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 黄瓜 单倍体 加倍 方法
【说明书】:

发明提供了一种黄瓜单倍体加倍的方法,属于植物组织培养技术领域,包括:将黄瓜单倍胚状体的胚根埋入再生培养基中进行第一培养,得到具有第一片完整真叶的黄瓜苗;再生培养基中包括蔗糖、琼脂、6‑苄氨基嘌呤和萘乙酸;第一培养的条件:白天光照强度为3000~5000LUX,温度24~28℃;夜晚暗培养,温度20~25℃;再进行第二培养,实现黄瓜单倍体加倍;第二培养的条件:白天光照强度为5000~9000LUX,温度24~28℃;夜晚暗培养,温度20~25℃。本发明提供的方法密刺型黄瓜材料染色体自然加倍的比率可达84.7%,欧洲型材料染色体自然加倍率达到72.7%,华南型材料染色体加倍率达到71.3%。

技术领域

本发明属于植物组织培养技术领域,尤其涉及一种黄瓜单倍体加倍的方法。

背景技术

通过黄瓜未授粉子房的培养,胚囊中的单倍体细胞可培养出倍性为单倍体的胚状体,进而培养成再生植株,通常这些再生植株的染色体倍性仍是单倍体,单倍体的再生植株要经过染色体的加倍,这个加倍的双单倍体植株,可以应用于黄瓜的新品种选育,是黄瓜遗传育种中重要的育种材料。

通常单倍体植株的染色体加倍应用最多的是化学诱变法,黄瓜单倍体培养中常用的诱变剂为秋水仙素。但秋水仙素诱导加倍的方法,操作过程复杂,加倍过程时间较长,且对再生植株产生伤害,造成死苗。相关报道有关黄瓜单倍体培养再生植株自然加倍的情况,但只是针对某特定基因型的黄瓜材料 (如中国密刺型黄瓜),且其具体方法不详。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于一种黄瓜单倍体加倍的方法,采用本发明提供的方法不会使得黄瓜死苗,可使密刺型、欧洲型和华南型黄瓜单倍体加倍。

为了实现上述发明目的,本发明提供了以下技术方案:

一种黄瓜单倍体加倍的方法,包括以下步骤:

1)将黄瓜单倍胚状体的胚根埋入再生培养基中进行第一培养,得到具有第一片完整真叶的黄瓜苗;

所述再生培养基以MS培养基为基础培养基,包括蔗糖、琼脂、6-苄氨基嘌呤和萘乙酸;

所述第一培养的条件包括:白天的光照强度为3000~5000LUX,白天的温度为24~28℃;夜晚暗培养,夜晚的温度为20~25℃;

2)将所述步骤1)得到的具有第一片完整真叶的黄瓜苗进行第二培养,实现黄瓜单倍体加倍;

所述第二培养的条件包括:白天的光照强度为5000~9000LUX,白天的温度为24~28℃;夜晚暗培养,夜晚的温度为20~25℃。

优选的,所述步骤1)黄瓜单倍胚状体至少具有1个胚芽和1个胚根 。

优选的,所述步骤1)再生培养基中蔗糖的质量百分含量为3%。

所述再生培养基中琼脂的质量百分含量为0.7~1%。

优选的,所述黄瓜包括密刺型黄瓜、欧洲型黄瓜和华南型黄瓜中的一种或几种。

优选的,所述步骤1)再生培养基中6-苄氨基嘌呤的浓度为0.05~0.5mg/L。

优选的,所述步骤1)再生培养基中6-苄氨基嘌呤的浓度为0.2mg/L。

优选的,所述步骤1)再生培养基中萘乙酸的浓度为0.01~0.1mg/L。

优选的,所述步骤1)再生培养基中萘乙酸的浓度为0.05mg/L。

优选的,所述步骤1)第一培养的条件包括:白天的光照强度为 4000LUX,白天的温度为26℃;夜晚暗培养,夜晚的温度为22℃。

优选的,所述步骤2)第二培养的条件包括:白天的光照强度为 7000LUX,白天的温度为26℃;夜晚暗培养,夜晚的温度为22℃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京市农林科学院,未经北京市农林科学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011369779.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top