[发明专利]聚酰亚胺基板和显示设备在审
申请号: | 202011370595.1 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112992974A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 金圣训;申东菜;孙庚模 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/00;H01L27/15 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘久亮;黄纶伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚酰亚胺 显示 设备 | ||
1.一种显示设备,该显示设备包括:
具有第一透射率的聚酰亚胺基板,该聚酰亚胺基板包括位于一个表面的至少一部分上的多个凹雕图案,并且其中,在所述多个凹雕图案中设置填充物,并且所述填充物具有大于所述第一透射率的第二透射率;以及
设置在所述聚酰亚胺基板上的多个子像素,所述多个子像素包括设置有发光元件的发光部分、设置有薄膜晶体管的电路部分、以及位于除了设置有所述发光部分和所述电路部分的区域以外的区域的至少一部分上的透射部分。
2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个凹雕图案设置在包括与所述透射部分交叠的区域的区域上。
3.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个凹雕图案设置在除了与所述发光部分和所述电路部分中的至少一个交叠的区域以外的区域上。
4.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述发光元件的至少一部分设置在与所述薄膜晶体管交叠的区域上,并且
所述多个凹雕图案设置在除了与所述发光部分和所述电路部分交叠的区域以外的区域上。
5.根据权利要求1所述的显示设备,其中,从所述发光元件发射的光通过所述聚酰亚胺基板的底表面输出,并且
所述多个凹雕图案设置在包括与所述发光部分和所述透射部分交叠的区域的区域上。
6.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个凹雕图案的形状和尺寸是恒定的,并且所述多个凹雕图案之间的距离是恒定的。
7.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述填充物的厚度大于所述聚酰亚胺基板的厚度减去所述凹雕图案的深度的值。
8.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述填充物的热膨胀系数大于所述聚酰亚胺基板的热膨胀系数且小于透明聚酰亚胺的热膨胀系数。
9.根据权利要求1所述的显示设备,其中,在所述聚酰亚胺基板的一个表面处,所述填充物的顶表面位于与除了所述凹雕图案所在的区域以外的区域的表面相同的平面上。
10.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述填充物更多地设置在所述凹雕图案的外周区域上,并且所述填充物的顶表面是平坦的。
11.根据权利要求1所述的显示设备,该显示设备还包括:
至少一个绝缘层,所述至少一个绝缘层位于所述透射部分的至少一部分上,并且包括与所述填充物相同的材料。
12.根据权利要求1所述的显示设备,其中,包括在所述薄膜晶体管中的有源层包括多晶硅。
13.一种显示设备,该显示设备包括:
聚酰亚胺基板;以及
设置在所述聚酰亚胺基板上的多个子像素,所述多个子像素包括设置有发光元件的发光部分、设置有薄膜晶体管的电路部分以及位于除了设置有所述发光部分和所述电路部分的区域以外的区域的至少一部分上的透射部分,
其中,所述聚酰亚胺基板的顶表面包括位于与所述透射部分交叠的区域的至少一部分上的多个凹雕图案。
14.根据权利要求13所述的显示设备,该显示设备还包括:
设置在所述凹雕图案中的填充物,所述填充物的透射率大于所述聚酰亚胺基板的透射率。
15.根据权利要求14所述的显示设备,其中,所述填充物的顶表面和所述聚酰亚胺基板的顶表面位于同一平面上。
16.根据权利要求13所述的显示设备,其中,所述多个凹雕图案更多地位于与所述发光部分和所述电路部分交叠的区域的至少一部分上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的