[发明专利]掩膜版在审
申请号: | 202011380899.6 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112575288A | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 孙琳;李露露;王恩霞;李世泰;李慧 | 申请(专利权)人: | 合肥维信诺科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 | ||
本发明公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜版框架和掩膜版本体;掩膜版本体设置于掩膜版框架上;掩膜版本体包括遮挡区,遮挡区在掩膜版框架上的垂直投影包括第一区域和第二区域,第一区域设置于第二区域远离掩膜版框架开窗区的一侧,沿掩膜版框架的厚度方向,掩膜版框架和第二区域的掩膜版本体之间设置有中空结构,中空结构靠近掩膜版框架开窗区的边缘与外界连通。在掩膜版进行清洗时,中空结构为清洗液提供了间隙通道,从而可以减少清洗液的干燥时间。而且可以增加风刀吹入中空结构的吹入量,进一步地减少清洗液的干燥时间,或者可以在相同干燥时间内提高掩膜版的干燥程度,从而可以减少蒸镀腔室真空异常的现象,减小蒸镀设备污染的概率。
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版。
背景技术
目前,有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)采用真空蒸镀工艺制备有机发光层。在制备有机发光层的过程中,需要掩膜版将有机发光材料蒸镀到预设位置。而在蒸镀过程中,掩膜版的表面会沉积大量有机发光材料,因此需要采用清洗液定时对掩膜版进行清洗。现有技术中,在清洗掩膜版之后,掩膜版的焊接区周围的清洗液容易残留,导致再次利用掩膜版进行蒸镀时会使蒸镀腔室真空异常,同时容易污染蒸镀设备。
发明内容
本发明提供一种掩膜版,以减小掩膜版的干燥时长,减少掩膜版的清洗液残留问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版,包括掩膜版框架和掩膜版本体;
所述掩膜版本体设置于所述掩膜版框架上;所述掩膜版本体包括遮挡区,所述遮挡区在所述掩膜版框架上的垂直投影包括第一区域和第二区域,所述第一区域设置于所述第二区域远离所述掩膜版框架开窗区的一侧,所述第一区域的掩膜版本体与所述掩膜版框架固定连接;沿所述掩膜版框架的厚度方向,所述掩膜版框架和所述掩膜版本体之间设置有中空结构,所述中空结构靠近所述掩膜版框架开窗区的边缘与外界连通。
可选地,所述第二区域的掩膜版本体的蒸镀面设置有第一凹槽,所述第一凹槽形成所述中空结构。
可选地,所述第一凹槽远离所述第一区域的边缘到所述掩膜版框架的内侧表面的距离大于零。
可选地,沿所述掩膜版框架的厚度方向,所述第一凹槽的深度小于或等于所述掩膜版本体厚度的五分之一。
可选地,所述掩膜版框架包括边框;沿所述掩膜版框架的厚度方向,在所述边框与所述第二区域的掩膜版本体相对的部分,所述边框的上表面设置有第二凹槽,所述第二凹槽形成所述中空结构。
可选地,沿所述掩膜版本体的一端指向所述掩膜版本体的中点方向,所述第二凹槽的深度逐渐增加。
可选地,所述第二凹槽为多个,沿所述掩膜版本体的一端指向所述掩膜版本体的中点方向,每一所述第二凹槽的延伸方向相同。
可选地,沿所述掩膜版本体的一端指向所述掩膜版本体的中点方向,每一所述第二凹槽的延伸方向与所述边框的延伸方向不垂直。
可选地,相邻所述第二凹槽间的距离相等。
可选地,所述中空结构靠近所述第一区域的边缘到所述第一区域的垂直距离大于或等于0.5mm。
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