[发明专利]一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法有效

专利信息
申请号: 202011382235.3 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN112663008B 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 王泽;秦青丰;王云壮;毕伟;孙志娟;夏少华;叶霞;李小平;王成;雷卫宁;谈衡;陈修祥 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/54;B21B1/38
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 张红艳
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 射频 控制 备镁铝 复合板 方法
【权利要求书】:

1.一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)基体准备:将清洗后的镁合金基体固定在挡板上,放入射频磁控溅射设备送样室进行抽真空,然后关闭送样室真空泵;

(2)预溅镀:分别对溅射腔中的镁靶材和铝靶材进行预溅镀;

(3)送样:打开送样室与溅射腔之间的闸门,将步骤(1)中准备好的镁合金基体送到溅射腔中样品台;

(4)洗腔:开启溅射腔进气阀,调节高纯氩气流量和清洗时间进行洗腔;

(5)加热基体:打开加热器将所述镁合金基体进行加热,然后调整样品旋转台持续旋转;

(6)溅镀:在完成步骤(5)基体加热后,分别设置镁靶材和铝靶材的溅射电压、工作压力、溅射时间、高纯氩气流量,自动执行程序设置的溅射顺序:镁靶材先进行溅射并通入高纯氩气,镁靶位溅射结束后关闭遮挡板,然后打开铝靶材的遮挡板开始溅射并通入高纯氩气;

(7)冷轧:溅射结束后,腔体冷却,取出试样,然后对溅镀铝的单面进行冷轧处理,获得镁铝复合板;

步骤(6)中所述镁靶材溅射时的腔体真空度≥2×10-7Torr、电压为50~100V、高纯氩气流量保持在20sccm、工作压力为3mTorr、溅射时间为30~60min、沉积距离为10cm;

所述铝靶材溅射时腔体真空度≥2×10-7Torr、电压为100~200V、高纯氩气流量保持在20sccm、工作压力为3mTorr、溅射时间为3~6h、沉积距离为10cm;

步骤(6)中,镁靶材溅射的镁层的厚度为1-3mm,铝靶材溅射的铝层的厚度为0.5-2mm。

2.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(1)中所述镁合金基体的清洗具体为:将线切割好的镁合金基体浸泡在醋酸溶液中清除表面油渍,然后用去离子水超声清洗三次进行单面抛光,抛光后分别放置在丙酮、乙醇和去离子水中依次进行超声清洗。

3.根据权利要求2所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,所述镁合金基体线切割后的尺寸为φ76.2×5mm,所述醋酸溶液的质量浓度为20~50wt%,醋酸溶液中浸泡的时间为10-24h,抛光前去离子水超声清洗的时间为15-30min/次,超声频率均为100Hz;

抛光至镜面后用丙酮、乙醇和去离子水的超声清洗的时间均为15~30min,超声频率均为100Hz。

4.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(1)中所述抽真空的真空度高于5×10-3Torr。

5.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(2)中所述镁靶材为纯度为99.99%的纯镁、铝靶材为纯度为99.9%的纯铝,预溅镀时溅射腔内真空度高于2×10-7Torr,电压均为50~150V,高纯氩气流量均为20~40sccm,工作压力为均3~10mTorr,溅射时间均为20~30min,溅射完成后腔体温度冷却至20~30℃。

6.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(4)中所述高纯氩气流量为100sccm,清洗时间为20~30min。

7.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(5)中所述加热为将镁合金基体加热至100~300℃,所述旋转台的旋转速度保持在100rpm。

8.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(7)中腔体冷却至20~30℃取出试样,所述冷轧处理时,溅镀铝的涂层面朝上,进行单面冷轧处理,下压量为1~2mm。

9.根据权利要求1所述的一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法,其特征在于,步骤(3)中所述镁合金基体在样品台上保持静止。

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