[发明专利]薄型两相流装置在审

专利信息
申请号: 202011383094.7 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN112484545A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 谢国俊 申请(专利权)人: 奇鋐科技股份有限公司
主分类号: F28D15/04 分类号: F28D15/04
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 李林
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 两相 装置
【权利要求书】:

1.一种薄型两相流装置,其特征在于,包含:

一第一板体,具有一第一侧面及一第二侧面及复数凸体,该复数凸体凸设于该第一侧面;

一第二板体,一侧具有一纳米毛细层,所述纳米毛细层由复数种不同颗粒大小的粉末混和而成并附着于该第二板体相对该第一板体第一侧面的一侧表面;

一聚合物层,选择与前述第一板体、第二板体其中任一结合,所述薄型两相流装置总厚度是等于或小于0.25mm。

2.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:所述第一板体是由复数板体相互叠合所组成,该复数板体夹持所述聚合物层组成该第一板体。

3.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:所述第二板体是由复数板体相互叠合所组成,该复数板体夹持所述聚合物层组成该第二板体。

4.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:所述纳米毛细层具有复数第一粉末及复数第二粉末,所述第一粉末颗粒粒径大于该第二粉末颗粒粒径,所述第一粉末、第二粉末混合并通过烧结、粘合、喷涂、印刷等方式形成于该第二板体相对该第一板体的一侧。

5.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:所述聚合物层,是通过涂布、印刷或粘合的方式成型于该第一板体、第二板体其中任一的表面上。

6.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:该复数凸体由所述第二侧面向该第一侧面凹陷后凸伸出该第一侧面。

7.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:还具有一亲水层,所述亲水层设于前述第一板体的第一侧面,或设于该第二板体相对该第一板体的第一侧面的一侧,或设于所述纳米毛细层表面。

8.如权利要求1所述的薄型两相流装置,其特征在于:所述第一板体、第二板体相互叠合共同界定一气密腔室,该纳米毛细层设置于该气密腔室内,该气密腔室内填充有一工作液体。

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