[发明专利]毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法有效

专利信息
申请号: 202011383550.8 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN112464605B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 金晶;许正奇;刘晓鸣;周健军 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G06F30/373 分类号: G06F30/373;G06F119/10
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王毓理;王锡麟
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 毫米波 低噪声放大器 移相器 组合 系统 优化 方法
【权利要求书】:

1.一种毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征在于,通过设置变压器作为组合系统中的正交耦合器的主体部分,根据工作频率计算正交耦合器所需并联电容以及输出阻抗初始值,优化LNA的变压器反馈部分以使LNA的变压器两线圈等效电感之比的平方根n和耦合系数k1最大化,计算最优噪声情况下MOSFET的跨导,通过调节MOSFET直流偏置点和尺寸使实际跨导达到最优值;

所述的组合系统,包括依次相连的正交耦合器QHC、低噪声放大器组LNA以及可编程增益放大器PGA,其中:正交耦合器经单端输入产生I、Q两路信号并通过CG级的低噪声放大器组放大,经可编程增益放大器调制后合成输出差分信号。

2.根据权利要求1所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的变压器的两线圈等效电感L3相同并最小化,同时保证最大化耦合系数。

3.根据权利要求1或2所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,当LNA与正交耦合器未幅度匹配,降低n并重新调节MOSFET跨导gm,如此往复直至满足LNA与正交耦合器幅度匹配的条件。

4.根据权利要求1所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的正交耦合器包括:主体部分以及分别与之相连的输入端IN、直通端THRU、隔离端ISO与耦合端CPL,该主体部分包括:分别设置于输入端IN和直通端THRU之间以及设置于隔离端ISO和耦合端CPL之间的等效感值相同且互相耦合的QHC线圈、分别设置于输入端IN和耦合端CPL之间以及设置于直通端THRU和隔离端ISO之间的等效容值相同的第一电容、分别设置于输入端IN、直通端THRU、隔离端ISO与耦合端CPL与地之间的等效容值相同的第二电容。

5.根据权利要求4所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的直通端THRU和耦合端CPL的相位差为(90±2)°且分别与两个相同的低噪声放大器LNA相连。

6.根据权利要求3所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的QHC线圈、第一电容和第二电容满足:角频率其中:L3为两线圈等效电感,k2为两个线圈之间的耦合系数,Rs为QHC的特征阻抗,C1和C2分别为第一和第二电容的容值,从而保证奇模和偶模情况下电磁波传播速度相同。

7.根据权利要求3所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的CG级的低噪声放大器组LNA包括两个相同的低噪声放大器,通过使用低噪声放大器的变压器实现栅端至源端的负反馈-A,从而提高有效跨导Gm-boosting、降低噪声系数和直流功耗。

8.根据权利要求7所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,每个低噪声放大器的噪声系数其中:k1为Gm-boosting低噪声放大器所用变压器的耦合系数,gm为MOSFET跨导,Rs为QHC的输出阻抗,γ为MOSFET的噪声参数,gd0为漏源电压为0时的漏源电导,δ为MOSFET的栅极噪声系数,ω为角频率,Cgs为MOSFET栅源寄生电容。

9.根据权利要求7所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,所述的低噪声放大器的反馈系数A=nk1

10.根据权利要求8所述的毫米波低噪声放大器与移相器组合系统优化方法,其特征是,当噪声系数FCG最小时的最优正交耦合器输出阻抗其中:α为gm与gd0之比,则对应的最小噪声系数

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011383550.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top