[发明专利]光源装置

权利要求书

1.一种光源装置，其特征在于，具备：

第一激光二极管；

第二激光二极管；

反射器，其具有反射从所述第一激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第一反射面、反射从所述第二激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第二反射面、使透过了所述第一反射面的光出射的第一出射面以及使透过了所述第二反射面的光出射的第二出射面；

光检测器，其具有接收从所述第一出射面出射的第一光的第一受光元件以及接收从所述第二出射面出射的第二光的第二受光元件；

基体，其直接或间接地支承所述第一激光二极管、所述第二激光二极管、所述反射器及所述光检测器；

所述反射器具有对透过了所述第一反射面的光从所述第二出射面的出射进行抑制、并且对透过了所述第二反射面的光从所述第一出射面的出射进行抑制的遮光构造。

2.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，

所述反射器具有设置在由所述第一反射面及所述第一出射面规定的第一部分与由所述第二反射面及所述第二出射面规定的第二部分之间的遮光部。

3.如权利要求2所述的光源装置，其特征在于，

所述遮光部在所述第一部分与所述第二部分之间形成为狭缝状。

4.如权利要求2所述的光源装置，其特征在于，

所述遮光部是形成于所述反射器的上表面、所述反射器的下表面、所述第一反射面、所述第二反射面、所述第一出射面及所述第二出射面中的至少一个面的凹部。

5.如权利要求3或4所述的光源装置，其特征在于，

在所述遮光部的表面形成有遮光膜。

6.如权利要求3或4所述的光源装置，其特征在于，

所述遮光部由遮光材料填充。

7.如权利要求1至6中任一项所述的光源装置，其特征在于，

在所述第一反射面及所述第二反射面，形成有使入射光的一部分反射且使该入射光的一部分透过的光反射控制膜。

8.如权利要求1至7中任一项所述的光源装置，其特征在于，

所述光检测器以所述反射器为基准，配置在与所述第一激光二极管及所述第二激光二极管相反的一侧的位置，

所述反射器的所述第一出射面及所述第二出射面分别与所述第一受光元件的受光面及所述第二受光元件的受光面对置。

9.如权利要求1至7中任一项所述的光源装置，其特征在于，

所述光检测器支承于所述基体的上表面，

所述反射器配置在所述光检测器的上方，

所述反射器的所述第一出射面及所述第二出射面分别与所述第一受光元件的受光面及所述第二受光元件的受光面对置。

10.如权利要求1至9中任一项所述的光源装置，其特征在于，

所述第一激光二极管的发光峰值波长与所述第二激光二极管的发光峰值波长不同。

11.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，

所述光源装置还具备第三激光二极管，

所述反射器还具有反射从所述第三激光二极管出射的激光的一部分且使该激光的一部分透过的第三反射面以及使透过了所述第三反射面的光出射的第三出射面，

所述光检测器还具有接收从所述第三出射面出射的第三光的第三受光元件，

所述反射器还具有对透过了所述第二反射面的光从所述第三出射面的出射进行抑制、并且对透过了所述第三反射面的光从所述第二出射面的出射进行抑制的遮光构造。

12.如权利要求11所述的光源装置，其特征在于，

所述反射器具有：

第一部分，其由所述第一反射面及所述第一出射面规定；

第二部分，其由所述第二反射面及所述第二出射面规定；

第三部分，其由所述第三反射面及所述第三出射面规定；

遮光部，其设置在所述第一部分与所述第二部分之间；

其他遮光部，其设置在所述第二部分与所述第三部分之间。